广州华星光电半导体显示技术有限公司史文获国家专利权
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龙图腾网获悉广州华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利TFT基板及其制作方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114447119B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-06发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210064257.8,技术领域涉及:H10D30/67;该发明授权TFT基板及其制作方法是由史文设计研发完成,并于2022-01-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本TFT基板及其制作方法在说明书摘要公布了:本申请实施例提供一种TFT基板及其制作方法。本申请实施例提供的TFT基板,通过设置功能层包括栅极、第一遮光区、第二遮光区、源极接触区以及漏极接触区,并设置源极通过栅极绝缘层上的源极接触孔与源极接触区电性连接,漏极通过栅极绝缘层上的漏极接触孔与漏极接触区电性连接,使得有源层的侧面被源极和漏极遮挡,有源层的背面被功能层遮挡,也即是说,对有源层的侧面和背面进行全方位的遮光保护,避免光线从侧面和背面照射至有源层导致有源层中产生光生载流子,提升了TFT器件的光照稳定性。
本发明授权TFT基板及其制作方法在权利要求书中公布了:1.一种TFT基板,其特征在于,包括: 衬底; 功能层,设于所述衬底的一侧,所述功能层包括栅极、第一遮光区、第二遮光区、源极接触区以及漏极接触区,其中,所述第一遮光区和所述第二遮光区分别位于所述栅极的两侧,所述源极接触区设于所述第一遮光区远离所述栅极的一侧,所述漏极接触区设于所述第二遮光区远离所述栅极的一侧,所述栅极、所述源极接触区以及所述漏极接触区均为导电材料,所述第一遮光区和所述第二遮光区均为绝缘材料; 栅极绝缘层,设于所述功能层远离所述衬底的一侧,所述栅极绝缘层上设有源极接触孔与漏极接触孔; 有源层,设于所述栅极绝缘层远离所述功能层的一侧; 源漏极层,设于所述有源层远离所述栅极绝缘层的一侧,所述源漏极层包括源极和漏极,所述源极通过所述源极接触孔与所述源极接触区电性连接,所述漏极通过所述漏极接触孔与所述漏极接触区电性连接,所述源极的一部分覆盖所述有源层的一侧的侧壁,所述漏极的一部分覆盖所述有源层的另一侧的侧壁; 所述栅极的材料、所述源极接触区的材料以及所述漏极接触区的材料均为金属,所述第一遮光区的材料和所述第二遮光区的材料均为金属氧化物。
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