高乐思太阳能科技(无锡)有限公司朱广霞获国家专利权
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龙图腾网获悉高乐思太阳能科技(无锡)有限公司申请的专利一种陷光膜获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223872684U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422764579.0，技术领域涉及：H10F77/42；该实用新型一种陷光膜是由朱广霞;曹金鑫设计研发完成，并于2024-11-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种陷光膜在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种陷光膜，其有效降低光伏电池片的制作工序，使得光伏电池片的制作快捷高效，且降低了制作光伏电池片的能耗和污染问题。其包括四方连续扩展的膜体，所述膜体表面上设置有若干上凸造型，所述上凸造型连续设置于所述膜体的表面，所述膜体包括厚度方向由上到下顺次复合的第一连接层、基材层、结构层、第二连接层，所述上凸造型为微观的金字塔结构或火山口结构，所述基材层为折射率为1.5～1.9的透明高分子材料，所述结构层为固化胶层；所述第一连接层、第二连接层均为聚烯烃弹性体层。
本实用新型一种陷光膜在权利要求书中公布了：1.一种陷光膜，其特征在于：其包括四方连续扩展的膜体，所述膜体表面上设置有若干上凸造型，所述上凸造型连续设置于所述膜体的表面，所述膜体包括厚度方向由上到下顺次复合的第一连接层、基材层、结构层、第二连接层，所述上凸造型为微观的金字塔结构或火山口结构，所述基材层为折射率为1.5～1.9的透明高分子材料，所述结构层为固化胶层；所述第一连接层、第二连接层均为聚烯烃弹性体层。
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