盛合晶微半导体(江阴)有限公司朱琦琪获国家专利权
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龙图腾网获悉盛合晶微半导体(江阴)有限公司申请的专利一种刻蚀液回收装置及晶圆刻蚀设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223862522U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520140307.5，技术领域涉及：B08B15/04；该实用新型一种刻蚀液回收装置及晶圆刻蚀设备是由朱琦琪设计研发完成，并于2025-01-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种刻蚀液回收装置及晶圆刻蚀设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种刻蚀液回收装置及晶圆刻蚀设备，刻蚀液回收装置包括第一回收罩和第二回收罩，第二回收罩包围第一回收罩，且二者之间形成用于回收刻蚀液的集液腔；第二回收罩顶部设置有同轴的第一挡板和第二挡板，第二挡板位于第一挡板外侧，第二挡板的高度大于第一挡板的高度，且二者之间设置有回收孔，回收孔与集液腔连通，以便对刻蚀液进行回收。本实用新型通过在刻蚀液回收装置中设置第一挡板和第二挡板，能够避免作业过程中刻蚀液飞溅至回收装置外侧，从而实现刻蚀液的完全回收，避免刻蚀液污染刻蚀设备腔体，有效提高产品良率。
本实用新型一种刻蚀液回收装置及晶圆刻蚀设备在权利要求书中公布了：1.一种刻蚀液回收装置，其特征在于，包括： 第一回收罩，所述第一回收罩顶部具有第一开口； 第二回收罩，位于所述第一回收罩外侧，且与所述第一回收罩同轴设置，所述第二回收罩顶部具有第二开口，所述第二开口位于所述第一开口上方；所述第二回收罩与所述第一回收罩之间形成集液腔； 第一挡板，垂直设置于所述第二回收罩顶部，且环绕所述第二开口设置； 第二挡板，垂直设置于所述第二回收罩顶部，且位于所述第一挡板外侧，与所述第一挡板同轴设置，所述第二挡板的高度大于所述第一挡板的高度； 所述第二回收罩顶部具有多个回收孔，多个所述回收孔位于所述第一挡板与所述第二挡板之间，所述回收孔与所述集液腔连通。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人盛合晶微半导体(江阴)有限公司，其通讯地址为：214437 江苏省无锡市江阴市东盛西路9号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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