合肥晶合集成电路股份有限公司苏正龙获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利一种光学邻近效应修正优化方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121069711B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511544772.6,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权一种光学邻近效应修正优化方法是由苏正龙;王康;罗招龙设计研发完成,并于2025-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光学邻近效应修正优化方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种光学邻近效应修正优化方法,包括以下步骤:提供一初始版图,将所述初始版图划分为若干个小区块,所述小区块包括主图形区域和围设在所述主图形区域的扩展区域,每个所述小区块均与相邻的所述小区块的扩展区域重叠;对每个所述小区块OPC修正和模拟验证,并在模拟验证图形中在相邻两个所述小区块之间的重叠区域出现问题图形和若干个疑似凶手图形;从所有所述疑似凶手图形中找出造成所述问题图形出现的目标凶手图形;优化所有所述小区块中的目标凶手图形,以得到中间版图;对所述中间版图进行OPC修正,以大大降低小区域边缘处的EPE,解决了OPC修正的验证结果不收敛的问题。
本发明授权一种光学邻近效应修正优化方法在权利要求书中公布了:1.一种光学邻近效应修正优化方法,其特征在于,包括以下步骤: 提供一初始版图,将所述初始版图划分为若干个小区块,所述小区块包括主图形区域和围设在所述主图形区域的扩展区域,每个所述小区块均与相邻的所述小区块的扩展区域重叠; 对每个所述小区块OPC修正和模拟验证,并在模拟验证图形中在相邻两个所述小区块之间的重叠区域出现问题图形和若干个疑似凶手图形,其中,所述疑似凶手图形为台阶状的线条; 对所述问题图形所在的图形线条进行碎片化处理,并得到若干个切割点,所述切割点为以与相邻切割点之间预设长度间隔设置的小剪辑区域; 以所述问题图形中的所有切割点为中心,将所述切割点向EPE模拟值增大的方向投影,并进行平行搜索检查,以找出台阶边缘与所述切割点相对齐的所述疑似凶手图形作为目标凶手图形; 优化所有所述小区块中的目标凶手图形,以得到中间版图; 对所述中间版图进行OPC修正。
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