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龙图腾网获悉中国科学院合肥物质科学研究院申请的专利过渡金属掺杂的L-MoS2@PI催化膜及制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121060566B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511573470.1，技术领域涉及：B01J27/051；该发明授权过渡金属掺杂的L-MoS2@PI催化膜及制备方法和应用是由谢超;张鹏宇;孔令涛设计研发完成，并于2025-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本过渡金属掺杂的L-MoS2@PI催化膜及制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明属于催化材料技术领域，具体涉及一种过渡金属掺杂的L‑MoS22@PI催化膜及制备方法和应用。本发明通过水热法合成MoS22纳米片，经超声剥离得到L‑MoS22纳米片；将干燥的PI粉末和L‑MoS22溶于混合有机溶剂混合形成制膜液；将制膜液脱气处理后涂覆制膜，然后浸入含有过渡金属盐的溶液中凝固成膜，得到过渡金属掺杂的L‑MoS22@PI催化膜。该膜在氧化体系下处理反渗透浓水时，对SO442‑2‑和Cl‑‑分离率达98~99%，TOC去除率达80~90%。本发明通过一步相转化同步实现铁掺杂与成膜，所得膜兼具高分离性能和催化活性，适用于反渗透浓水中有机物的深度去除。

本发明授权过渡金属掺杂的L-MoS2@PI催化膜及制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种过渡金属掺杂的L-MoS2@PI催化膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： S1、称取摩尔比1:3~5的二水钼酸钠和硫脲溶于水中，二水钼酸钠的溶解浓度为3~6mmolL，充分搅拌并调节pH为1~2，得到混合溶液；将混合溶液转移至反应釜中，在200℃下反应18~24h，收集固体产物清洗并干燥，得到MoS2薄层纳米片； S2、将DMACDMF与纯水按照1~3:1的体积比混合，得到混合溶剂1；将MoS2薄层纳米片按照1~5:100的质量比加入混合溶剂1中，超声剥离得到单层MoS2纳米片，记为L-MoS2； S3、将DMACDMF与助剂按照1~5:1的体积比混合，助剂为二恶烷、乙醚、四氢呋喃中的一种，得到混合溶剂2；将L-MoS2按照1~5:100的质量比分散在混合溶剂2中，得到混合分散液； S4、取干燥的聚酰亚胺PI粉末分散到上述混合分散液中，分散质量比为15-25:100，得到PI混合制膜液； S5、将PI混合制膜液脱气处理后涂覆在平片基底上，然后浸入过渡金属盐水溶液中凝固成膜，所述过渡金属盐水溶液为质量浓度1%~5%的六水氯化铁水溶液；再置于异丙醇和DMF的混合溶剂中浸泡，将膜层从平片基底上剥离下来，即制得过渡金属掺杂的L-MoS2@PI催化膜。

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