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龙图腾网获悉北京大学申请的专利一种具有热循环应力加载层的外延衬底及外延片获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120998882B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511503351.9，技术领域涉及：H10W74/43；该发明授权一种具有热循环应力加载层的外延衬底及外延片是由王新强;陈兆营;余星城;马超凡;王岩;袁泽兴设计研发完成，并于2025-10-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种具有热循环应力加载层的外延衬底及外延片在说明书摘要公布了：本发明涉及外延技术领域，提供了一种具有热循环应力加载层的外延衬底及外延片，包括：原始衬底以及设置在原始衬底背面的热循环应力加载层；原始衬底的正面设置为生长面，原始衬底的背面设置为非生长面；热循环应力加载层用于在热循环过程结束后并恢复至同一温度条件时，利用热循环过程中的应力加载机制改变自身初始无应力状态，实现外延晶圆的翘曲度变化。外延片通过在外延衬底上生长外延层形成，外延片包括原始衬底、设置在外延衬底正面的外延层以及设置在原始衬底背面的热循环应力加载层。本发明能够调控外延晶圆的翘曲度，有效解决外延晶圆翘曲大的问题，并且热循环应力加载层制备工艺简单、兼容性好、成本低。

本发明授权一种具有热循环应力加载层的外延衬底及外延片在权利要求书中公布了：1.一种具有热循环应力加载层的外延衬底，其特征在于，包括：原始衬底、以及设置在所述原始衬底背面的热循环应力加载层； 所述原始衬底的正面设置为生长面，所述原始衬底的背面设置为非生长面； 所述热循环应力加载层用于在热循环过程结束后并恢复至同一温度条件时，利用热循环过程中的应力加载机制改变自身初始应力状态，实现所述外延衬底的翘曲度变化； 所述热循环应力加载层设置为利用等离子体增强化学气相沉积方法制备的高氢含量SiO2层，在升温过程中，所述高氢含量SiO2层发生脱氢反应和非晶结构重排，实现薄膜致密度增加、热膨胀系数降低，以使所述高氢含量SiO2层在升温过程中的热膨胀失配应力积累小于降温过程中的热膨胀失配应力释放，出现额外的应力加载； 所述热循环应力加载层还设置为热膨胀系数小于所述原始衬底的介质层薄膜，所述介质层薄膜的背面设置有多个均匀布置的沟槽，在升温过程中，随着张应力的累积，所述介质层薄膜沿着所述沟槽发生开裂并引导裂纹扩展，实现张应力释放，以在升温降温的热循环过程中产生额外的应力加载。

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