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龙图腾网获悉安庆师范大学申请的专利一种基于光场成像的金属制品表面缺陷检测方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120471899B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510655280.8，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权一种基于光场成像的金属制品表面缺陷检测方法及系统是由郑馨;郑诗义;谢远卓;王远志;刘德阳;郑冠豪设计研发完成，并于2025-05-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于光场成像的金属制品表面缺陷检测方法及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于光场成像的金属制品表面缺陷检测方法及系统，检测方法包括：获取光场图像；基于所述光场图像，获取聚焦堆栈图像特征和全聚焦图像特征；基于所述聚焦堆栈图像特征和全聚焦图像特征，获取焦平面外的残差特征；基于所述焦平面外的残差特征，获取缺陷特征；将所述缺陷特征和所述全聚焦图像特征进行融合，获取综合特征；基于所述综合特征，获取缺陷预测图，其中，所述缺陷预测图，用于缺陷定位和检测。本发明通过对聚焦栈和全聚焦图像进行有效的处理，实现对金属制品表面缺陷的高精度检测。

本发明授权一种基于光场成像的金属制品表面缺陷检测方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种基于光场成像的金属制品表面缺陷检测方法，其特征在于，包括： 获取光场图像； 基于所述光场图像，获取聚焦堆栈图像特征和全聚焦图像特征； 基于所述聚焦堆栈图像特征和全聚焦图像特征，获取焦平面外的残差特征； 基于所述聚焦堆栈图像特征和全聚焦图像特征，获取焦平面外的残差特征包括： 利用所述光场图像的全聚焦图像减去所述光场图像中的聚焦栈，获取所述焦平面外的残差特征； 基于所述焦平面外的残差特征，获取缺陷特征； 基于所述焦平面外的残差特征，获取缺陷特征包括： 对所述焦平面外的残差特征进行傅里叶变换，获取频域特征； 对所述焦平面外的残差特征进行小波变换和纹理特征提取，获取小波特征和纹理特征； 基于所述小波特征和纹理特征，生成空间注意力图； 基于所述空间注意力图，结合所述频域特征，获取动态频率掩码； 基于所述动态频率掩码，获取所述缺陷特征； 基于所述动态频率掩码，获取所述缺陷特征包括： 基于所述动态频率掩码，获取高频特征和低频特征； 对所述高频特征和低频特征进行频率权重卷积和边缘增强融合处理，获取所述缺陷特征； 将所述缺陷特征和所述全聚焦图像特征进行融合，获取综合特征； 基于所述综合特征，获取缺陷预测图，其中，所述缺陷预测图，用于缺陷定位和检测。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人安庆师范大学，其通讯地址为：246000 安徽省安庆市集贤北路1318号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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