武汉大学李仲阳获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉大学申请的专利可实现片上荧光发射强度调控与精细灰度纳米印刷的超构表面及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120370442B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510690852.6，技术领域涉及：G02B1/00；该发明授权可实现片上荧光发射强度调控与精细灰度纳米印刷的超构表面及其制备方法和应用是由李仲阳;万帅;时阳阳;王泽静;李醒龙设计研发完成，并于2025-05-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本可实现片上荧光发射强度调控与精细灰度纳米印刷的超构表面及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明涉及一种可实现片上荧光发射强度调控与精细灰度纳米印刷的超构表面及其制备方法和应用，超构表面包括基底层、波导层、纳米砖结构层及含量子点的荧光辐射层。通过双原子单元结构的周期及纳米砖之间的相对位移，利用片上双原子干涉机制实现荧光发射强度的周期性调制，达成高分辨率灰度荧光显示；通过正交方向空间混合双原子单元结构，构建低串扰的方向选择性双通道灰度显示；结合荧光发射与泵浦光散射的协同控制，通过单元周期及位移精确调控与编码荧光与泵浦光的出射角和出射强度，实现多色的灰度纳米印刷显示功能。本发明无需额外光学元件即可消除零级衍射背景干扰，具备制造鲁棒性强、集成度高等优势，可实现精细灰度及多色纳米印刷显示。
本发明授权可实现片上荧光发射强度调控与精细灰度纳米印刷的超构表面及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种可实现片上荧光发射强度调控与精细灰度纳米印刷的超构表面，其特征在于，利用片上双原子干涉机制，通过调整两个纳米砖之间的相对位移，对荧光发射强度进行周期性调制，实现高分辨率的灰度荧光显示，包括： 样品基底，所述基底采用熔融石英材质，用于支撑整个超构表面结构； 波导层，设置在所述基底之上，由氮化硅波导构成，用于引导光波传播； 纳米砖结构层，集成于所述波导层上，由硅材质的单元结构构成，每个单元结构包含两个矩形的纳米砖，所述单元结构的阵列周期以及纳米砖之间的相对位移能够进行调节； 荧光辐射层，覆盖在上述结构之上，为含有量子点的聚甲基丙烯酸甲酯层；所述荧光辐射层中的量子点在泵浦光激发下发射的荧光与散射的泵浦光在自由空间中叠加，形成无需额外滤光元件的多色显示效果。
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