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龙图腾网获悉清华大学申请的专利光栅尺位移测量系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120274642B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510343288.0，技术领域涉及：G01B11/02；该发明授权光栅尺位移测量系统是由王磊杰;张鸣;张丽婷;叶伟楠;朱煜;亓杰;成荣;李鑫设计研发完成，并于2025-03-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本光栅尺位移测量系统在说明书摘要公布了：本发明提供一种光栅尺位移测量系统，包括读头模块、参考光栅和光栅尺，读头模块包括X方向位移测量结构、Y方向位移测量结构和插值细分电路，X方向位移测量结构包括第一光源和多个第一探测器；Y方向位移测量结构包括第二光源和多个第二探测器；参考光栅设置在读头模块上部，参考光栅包括与第一光源相匹配的第一通光孔、与第一探测器相匹配的第一掩模狭缝、与第二光源相匹配的第二通光孔、与第二探测器相匹配的第二掩模狭缝，任意相邻第一掩模狭缝和任意相邻第二掩模狭缝的横向距离为nT+T4；光栅尺设置在参考光栅上方且光栅尺与参考光栅之间形成的距离为光栅尺的泰伯成像平面距离。实现了在满足高精度测量需求的前提下，能够有效降低系统尺寸。

本发明授权光栅尺位移测量系统在权利要求书中公布了：1.一种光栅尺位移测量系统，其特征在于，所述光栅尺位移测量系统包括读头模块、参考光栅以及光栅尺，其中， 所述读头模块包括X方向位移测量结构、Y方向位移测量结构以及插值细分电路，其中，所述X方向位移测量结构包括第一光源以及多个第一探测器；所述Y方向位移测量结构包括第二光源以及多个第二探测器； 所述参考光栅，设置在所述读头模块的上部，所述参考光栅包括与所述第一光源相匹配的第一通光孔、与多个第一探测器相匹配的多个第一掩模狭缝、与所述第二光源相匹配的第二通光孔、与多个第二探测器相匹配的多个第二掩模狭缝，其中，任意相邻所述第一掩模狭缝和任意相邻所述第二掩模狭缝的横向距离为nT+T4，T为所述第一掩模狭缝和所述第二掩模狭缝的掩模狭缝周期； 所述光栅尺，设置在所述参考光栅的上方且所述光栅尺与所述参考光栅之间形成的距离为所述光栅尺的泰伯成像平面距离，其中， 在所述光栅尺移动过程中，所述读头模块中所述第一光源和所述第二光源发出的光经过所述参考光栅中所述第一通光孔和所述第二通光孔到达所述光栅尺后，经所述光栅尺衍射并反射后在所述参考光栅处形成光栅结构泰伯像信号，以使所述光栅结构泰伯像信号通过所述第一掩模狭缝和所述第二掩模狭缝到达所述第一探测器和所述第二探测器，并基于所述第一探测器和所述第二探测器将所述光栅结构泰伯像信号传输至所述插值细分电路，以使所述插值细分电路对所述光栅结构泰伯像信号进行差分处理，得到差分后正弦信号，并基于所述差分后正弦信号确定所述光栅尺的位移值。

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