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龙图腾网获悉万明电镀智能科技(东莞)有限公司申请的专利一种插头屏蔽件的电镀方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119615317B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510089023.2，技术领域涉及：C25D5/18；该发明授权一种插头屏蔽件的电镀方法是由祁富安;张芮设计研发完成，并于2025-01-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种插头屏蔽件的电镀方法在说明书摘要公布了：本申请涉及电镀技术领域，公开了一种插头屏蔽件的电镀方法，包括以下步骤：对插头屏蔽件进行表面预处理；将插头屏蔽件置于电解液中进行电镀，所述电镀过程中通过主电极和辅助电极实现电场分布调控，同时结合磁场和流场进行优化；对电镀后的插头屏蔽件进行钝化、清洗、干燥和固化处理。通过超声波清洗、等离子体处理和酸性活化提高表面活性；采用主电极和辅助电极调控电场分布，并结合磁场与流场优化深孔区域离子迁移，实现镀层厚度均匀性和覆盖率提升；利用脉冲电流细化晶粒结构，增强镀层致密性和机械强度；后处理通过钝化、干燥和固化提高防腐性能，达到了显著提升电镀层附着力和镀层均匀性的技术效果。

本发明授权一种插头屏蔽件的电镀方法在权利要求书中公布了：1.一种插头屏蔽件的电镀方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、对插头屏蔽件进行表面预处理； S2、将插头屏蔽件置于电解液中进行电镀，所述电镀过程中通过主电极和辅助电极实现电场分布调控，同时结合磁场和流场进行优化； 其中，所述主电极的电流密度范围为2.0～2.5Adm²；所述辅助电极的电位范围为0～0.5V；所述磁场通过电磁线圈生成，磁场强度范围为0.2～0.4T，磁场方向与电场方向正交；所述流场通过微流控喷嘴在插头屏蔽件的深孔和凹槽区域生成，所述微流控喷嘴的流速范围为0.2～0.5ms，喷射角度范围为30°～60°；电镀时采用脉冲电流进行电镀，脉冲频率范围为300～500Hz，峰值电流密度为2.5～3.5Adm²，开通时间与关断时间比值为1:1～1:2； S3、对电镀后的插头屏蔽件进行钝化、清洗、干燥和固化处理； 其中，所述表面预处理包括以下步骤： 在乙醇溶液中进行超声波清洗，时间为8～12分钟，温度为25～30℃； 使用氩气等离子体对插头屏蔽件表面进行处理，气压范围为0.05～0.15MPa，功率范围为50～150W，时间为2～5分钟； 在10%的硫酸溶液中进行酸性活化处理，时间为1～3分钟，温度为25～35℃； 其中，所述电镀步骤中，电解液的成分包括： 硫酸镍，浓度为280～320gL； 氯化镍，浓度为40～50gL； 硼酸，浓度为25～35gL； 聚乙二醇，浓度为40～60ppm。

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