上海大学朱波获国家专利权
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龙图腾网获悉上海大学申请的专利一种低阻抗两性离子导电高分子及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119463128B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311008119.9，技术领域涉及：C08G61/12；该发明授权一种低阻抗两性离子导电高分子及其制备方法是由朱波;尹相燕设计研发完成，并于2023-08-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低阻抗两性离子导电高分子及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种低阻抗两性离子导电高分子及其制备方法，在钯催化剂、氧化剂、溶剂以及含缺电子基团的含氮杂环配体存在的条件下，将待活化芳烃和卤代芳烃经直接芳基化聚合反应一步合成抗非特异性粘附聚合物；待活化芳烃为含两性离子官能团的功能化单体；含缺电子基团的配体为含氮杂环配体；制得的抗非特异性粘附聚合物的结构通式为其中，R11、R22各自独立，且n为大于20的自然数。本发明提供的制备方法步骤简单、快速、功能基团在反应中稳定性好，适用于工业化生产；本发明的抗非特异性粘附聚合物的分子量高，结构规整，产率高，在生物电子材料领域有着广泛的应用前景。
本发明授权一种低阻抗两性离子导电高分子及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种低阻抗两性离子导电高分子，其特征在于：其重复单元含有两个相互独立的两性离子基团； 其电化学阻抗显著低于不含两性离子基团导电高分子和重复单元只含一个两性离子基团导电高分子； 其抵御生物分子、病毒、细胞、细菌和真菌粘附的能力显著优于重复单元只含一个两性离子基团导电高分子； 两性离子导电高分子具有结构通式，其聚合物的电化学阻抗显著低于不含两性离子的和一个重复单元只含一个两性离子基团的和；其中，n为大于20的自然数； 两性离子导电高分子含有两性离子基团功能化单体，其中R1、R2分别为、、、、和中相互独立的任意一种，其中Y为、和中的任意一种，x、y为整数，且0≤x≤20,0≤y≤20。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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