深圳晶源信息技术有限公司周润获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳晶源信息技术有限公司申请的专利一种光源确定方法、设备、介质及产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119395949B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411642302.9，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种光源确定方法、设备、介质及产品是由周润设计研发完成，并于2024-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光源确定方法、设备、介质及产品在说明书摘要公布了：本申请公开了一种光源确定方法、设备、介质及产品，应用于光刻技术领域。该方法在光源平面上生成多个目标区域，并利用各目标区域的光源，在预设工艺条件下对目标掩膜图形分别进行成像仿真，得到各局部的目标成像性能指标。然后，基于上述局部数据，生成整体成像性能指标；通过整体成像性能指标确定最终的目标光源。本方案是通过获取光源平面的成像性能指标的方式来确定最终的目标光源，因此可根据实际需求结合成像性能指标对光源进行调整。通过仿真出成像性能指标来确定光源，依据更多且更加准确的信息，能够准确地获取与实际需求相符的光源，从而提高生产效率。此外，通过仿真还能够判断是否存在掩模图形设计上的冲突，避免不必要的调试迭代。
本发明授权一种光源确定方法、设备、介质及产品在权利要求书中公布了：1.一种光源确定方法，其特征在于，包括： 获取光源平面上的多个目标点位； 基于各所述目标点位，分别在所述光源平面上生成对应的目标区域； 利用各个所述目标区域的光源，在预设工艺条件下对目标掩膜图形分别进行成像仿真，得到对应的目标成像性能指标； 基于所述目标成像性能指标以及对应的所述目标区域在所述光源平面上的位置，生成整个所述光源平面的整体成像性能指标，以确定目标光源； 其中，利用各个所述目标区域的光源，在预设工艺条件下对目标掩膜图形分别进行成像仿真，得到对应的目标成像性能指标，包括： 针对每个目标区域对应的局部光源，在预设工艺条件下对目标掩膜图形进行成像仿真，得到通过所述局部光源照射所述目标掩膜图形对应的晶圆图形；比较所述目标掩膜图形以及所述晶圆图形，得到目标成像性能指标，成像性能指标包括焦深、掩模误差增强因子以及归一化斜率对数。
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