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龙图腾网获悉海南大学申请的专利一种双吖丙啶类化合物基底及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119219916B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411396507.3，技术领域涉及：C08G69/48；该发明授权一种双吖丙啶类化合物基底及其制备方法和应用是由宗成利;薛艳楠;孙甜甜;孟帅;赵蕾;吴以轩;蒋文轩;李晨设计研发完成，并于2024-10-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种双吖丙啶类化合物基底及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种双吖丙啶类化合物基底及其制备方法和应用，涉及微阵列固定化合物技术领域。本发明利用双吖丙啶类化合物对多聚赖氨酸基底进行修饰，得到了一种双吖丙啶类化合物基底，其合成步骤简单，应用范围广，可应用于高通量生物芯片制备领域、生物分子间相互作用研究、生物分子活性评价、疾病诊断、高通量筛选、药物筛选、荧光阵列成像以及表面等离子体共振成像等，具有广泛的市场前景；同时，将双吖丙啶类化合物基底制备生物芯片时，制备结果更可靠、制备的生物芯片检测结果更灵敏，背景低且信号好，具有普适性，并且生物芯片的制作方法具有操作简单、控制灵活、无需特殊设备、成本低廉、工作效率高的特点。

本发明授权一种双吖丙啶类化合物基底及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种双吖丙啶类化合物基底，其特征在于，包括修饰有双吖丙啶类化合物的多聚赖氨酸基底； 双吖丙啶类化合物基底的制备方法，包括以下步骤： 在溶剂中加入缩合剂、双吖丙啶类化合物和有机碱，搅拌至溶解得到第一混合溶液； 将多聚赖氨酸基底浸泡在第一混合溶液中，在惰性气体的保护条件下，避光反应，得到双吖丙啶类化合物基底； 其中，所述双吖丙啶类化合物为1,2-二氮杂螺[2.3]己-1-烯-5-羧酸、5-丙-2-炔-1-基-1,2-二氮杂螺[2.3]己-1-烯-5-羧酸、1,2-二氮杂螺[2.4]庚-1-烯-5-羧酸、1,2-二氮杂螺[2.5]辛烷-1-烯-6-羧酸、1,2-二氮杂螺[2.3]己-1-烯-5-羧酸甲酯、1,2-二氮杂螺[2.5]辛-1-烯-6-羧酸甲酯、3-甲基-3H-双吖丙啶-3-丙酸、4-[3-三氟甲基-3H-双吖丙啶-3-基]苯甲酸、3H-双吖丙啶-3,3-二羧酸二钾、甲基-双吖丙啶-丙氨酸、3-甲基-3H-双吖丙啶-3-丙酰氯、酸-双吖丙啶-丙酸甲酯、2-3-丁炔基氮二丙啶-3-基乙酸、4-[3-三氟甲基-3H-双吖丙啶-3-基]-D-苯丙氨酸、3-4-3-三氟甲基-3H-二氮杂环丙烯-3-基苯基丙酸、2-丙-2-炔-1-基氧基-4-3-三氟甲基-3H-二氮杂萘-3-基苯甲酸、3-3-三氟甲基-3H-二氮杂萘-3-基苯甲酸、4-[3-三氟甲基-3H-双吖丙啶-3-基]苯甲酸和3-3-丁-3-炔-1-基-3H-二氮杂萘-3-基丙酸中的一种。

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