上海联影医疗科技股份有限公司许蕾获国家专利权
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龙图腾网获悉上海联影医疗科技股份有限公司申请的专利定位校正方法、定位校正装置和存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116746905B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310850922.0，技术领域涉及：A61B5/055；该发明授权定位校正方法、定位校正装置和存储介质是由许蕾;李梦林;李奇康设计研发完成，并于2023-07-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本定位校正方法、定位校正装置和存储介质在说明书摘要公布了：本申请涉及一种定位校正方法、定位校正装置和存储介质，其中，该定位校正方法包括：获取待检测图像；其中，待检测图像为磁共振扫描中，对磁共振对象定位失败后产生的图像；对待检测图像进行异常定位分析，确定针对磁共振对象的异常定位成因；基于异常定位成因确定并输出定位校正信息。其能够实现对定位失败原因的分析，并提供定位校正方案，从而便于使用者基于定位校正信息成功完成自动定位，进而降低磁共振扫描的操作复杂度。
本发明授权定位校正方法、定位校正装置和存储介质在权利要求书中公布了：1.一种定位校正方法，其特征在于，包括： 获取待检测图像；其中，所述待检测图像为磁共振扫描中，对磁共振对象定位失败后产生的图像； 对所述待检测图像进行异常定位分析，确定针对所述磁共振对象的异常定位成因； 基于所述异常定位成因确定并输出定位校正信息；其中： 所述对所述待检测图像进行异常定位分析，确定针对所述磁共振对象的异常定位成因，包括： 利用训练完备的目标检测模型，对所述待检测图像进行目标结构检测和伪影检测，得到目标结构检测结果和伪影检测结果；根据所述目标结构检测结果和所述伪影检测结果，对所述待检测图像进行伪影遮挡分析，以判断所述异常定位成因是否包括伪影遮挡；根据所述目标结构检测结果，对所述待检测图像进行定位偏离分析，以判断所述异常定位成因是否包括定位偏离；和或， 利用训练完备的回归模型，对所述待检测图像进行旋转量预测，得到所述待检测图像在预设方向上的旋转量；基于所述待检测图像在预设方向上的旋转量，对所述待检测图像进行扫描姿态异常分析，以判断所述异常定位成因是否包括扫描姿态异常。
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