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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利对光学邻近修正光学模型筛选和评估的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116520634B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310473518.6，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权对光学邻近修正光学模型筛选和评估的方法是由孟春霞;张辰明;孟鸿林;魏芳设计研发完成，并于2023-04-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本对光学邻近修正光学模型筛选和评估的方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种对光学邻近修正光学模型筛选和评估的方法，提供测试图形以及用于光学邻近修正的光学模型；获取所有需要评估的测试图形在一种光学模型下的拟合图像以及在晶圆上的曝光后图像；根据拟合图像和曝光后图像获取对比图像；根据对比图像获取拟合图像和曝光后图像之间的各种参数差异；根据各种参数差异设置加权评价函数，设置加权评价函数的阈值，之后判断测试图形是否符合阈值；符合阈值的测试图形为适应该种光学模型；不符合阈值的测试图形则修正光学模型，重复上述步骤至不符合阈值的测试图形符合阈值；将各测试图形适用的光学模型导入至光学模型图形库。本发明可以缩短光学邻近修正迭代时间，提高光学邻近修正对所有图形的修正精度。

本发明授权对光学邻近修正光学模型筛选和评估的方法在权利要求书中公布了：1.一种对光学邻近修正光学模型筛选和评估的方法，其特征在于，至少包括： 步骤一、提供测试图形以及用于光学邻近修正的光学模型； 步骤二、获取所有需要评估的所述测试图形在一种光学模型下的拟合图像以及在晶圆上的曝光后图像； 步骤三、根据所述拟合图像和所述曝光后图像获取对比图像；根据所述对比图像获取所述拟合图像和所述曝光后图像之间的各种参数差异，所述参数差异的类型包括：关键尺寸的差值、线边粗糙度、侧壁角、关键尺寸均匀性、图形面积； 步骤四、根据步骤三中所述的各种所述参数差异设置加权评价函数，设置所述加权评价函数的阈值，之后判断所述测试图形是否符合所述阈值； 步骤五、符合所述阈值的所述测试图形为适应该种所述光学模型； 不符合所述阈值的所述测试图形则修正所述光学模型，重复步骤二至四的步骤至不符合所述阈值的所述测试图形符合所述阈值； 步骤六、将各所述测试图形适用的所述光学模型导入至光学模型图形库。

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