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龙图腾网获悉中国科学技术大学申请的专利一种利用光学衍射元件实现湿法全息光刻的系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116300327B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310040082.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种利用光学衍射元件实现湿法全息光刻的系统是由赵东;黄坤设计研发完成，并于2023-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种利用光学衍射元件实现湿法全息光刻的系统在说明书摘要公布了：本发明涉及一种利用光学衍射元件实现湿法全息光刻的系统，所述系统的光路包括紫外光源、准直光路、光学衍射元件、光电开关、涂满光刻胶的基片和浸水区域以及电位移台。在此，湿法全息光刻系统共有四种不同选择方案：振幅衍射元件正向或逆向放置；相位衍射元件正向或逆向放置，以上四种选择方案具有不同的侧重点。本发明将光学衍射元件在设定距离处生成全息图像的光路浸没在水中，同时在水中进行全息光刻，以实现更小的光刻特征尺寸。充分发挥光学衍射元件高稳定性和高适应性的优势，促进光刻领域的发展。

本发明授权一种利用光学衍射元件实现湿法全息光刻的系统在权利要求书中公布了：1.一种利用光学衍射元件实现湿法全息光刻的系统，其特征在于：所述系统的光路包括紫外光源、准直光路、光学衍射元件、光电开关、涂满光刻胶的基片和浸水区域以及电位移台；紫外光源输出的激光经过准直光路后，变为平行光束照射到光学衍射元件上，其中在光学衍射元件前使用光电开关控制光刻曝光时间，平行光照射在光学衍射元件上会携带附加的位相或振幅信息，继续向前衍射传输，在设定的浸水区域形成全息图像，对电位移台上固定着涂满光刻胶的基片进行曝光，实现光学衍射元件的湿法全息光刻；所述湿法全息光刻的特征尺寸为干法全息光刻的特征尺寸的四分之三； 所述的光学衍射元件由稳定性高的透明基底和金属膜组成； 所述光学衍射元件分为正向和逆向放置；光学衍射元件分为振幅衍射元件和相位衍射元件，对此湿法全息光刻系统共有四种不同选择方案：振幅衍射元件正向或逆向放置、相位衍射元件正向或逆向放置； 其中振幅或相位衍射元件正向放置时，全息图像的传播距离需大于基底厚度，重建的全息图像落在基底外，能够实现湿法全息光刻，而振幅或相位衍射元件逆向放置则对全息图像的成像距离没有限制；当相位衍射元件逆向放置时，需考虑基底和周围介质的折射率，基底和周围介质的折射率差值大于0.5时，只需对基底刻蚀较浅即小于一个波长的深度即可实现π的相位差；湿法全息光刻系统的四种选择方案具有不同的侧重点：若要实现大于10%的高衍射效率，选择相位衍射元件正向放置的全息光刻系统，效率最高；若全息图像成像距离小于基底厚度，选择振幅衍射元件逆向放置的全息光刻系统。

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