株式会社斯库林集团吉田幸史获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利基板处理方法、基板处理装置以及处理液获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116134585B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180060337.X，技术领域涉及：H10P50/60；该发明授权基板处理方法、基板处理装置以及处理液是由吉田幸史设计研发完成，并于2021-06-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法、基板处理装置以及处理液在说明书摘要公布了：一种基板处理方法，包括：处理膜形成工序，对基板的表面供给处理液并使前述基板的表面上的处理液固化或者硬化，由此于前述基板的表面形成处理膜；蚀刻促进工序，对前述处理膜进行蚀刻功能展现处理，由此促进基于前述处理膜的前述基板的表层部的蚀刻；以及蚀刻缓和工序，进行对前述处理膜的蚀刻功能消失处理，由此在前述处理膜被维持在前述基板上的状态下缓和基于前述处理膜的前述基板的表层部的蚀刻。
本发明授权基板处理方法、基板处理装置以及处理液在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，其中，包括： 处理膜形成工序，对基板的表面供给处理液并使所述基板的表面上的处理液固化或者硬化，由此于所述基板的表面形成处理膜； 蚀刻促进工序，对所述处理膜进行蚀刻功能展现处理，由此促进基于所述处理膜的所述基板的表层部的蚀刻；以及 蚀刻缓和工序，进行对所述处理膜的蚀刻功能消失处理，由此在所述处理膜被维持在所述基板上的状态下缓和基于所述处理膜的所述基板的表层部的蚀刻， 所述蚀刻功能展现处理包括：pH调整处理，朝向所述基板上的所述处理膜供给pH调整液，将所述处理膜中的pH调整成酸性或者碱性， 所述蚀刻功能消失处理包括：中性化处理，朝向所述基板上的所述处理膜供给中性化液，使所述处理膜中的pH比通过所述pH调整处理调整后的所述处理膜中的pH更接近中性。
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