东京毅力科创株式会社田中孝幸获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置和基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116072497B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211265064.5，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权基板处理装置和基板处理方法是由田中孝幸;佐藤亮设计研发完成，并于2022-10-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置和基板处理方法在说明书摘要公布了：本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。防止因基板的处理而在该基板的周围产生的沉积物向该基板附着。装置构成为包括：处理容器；等离子体形成机构，其为了处理所述基板而在处理空间形成等离子体；载物台，其为了载置所述基板而设于所述处理空间，包括由金属构成的部分；第1高频电源，其向所述载物台供给偏压用的高频；上部环，其为绝缘体，以俯视时不与所述载物台重叠的方式包围该载物台，与所述处理空间面对地设置；下部环，其为环状的绝缘体，为了支承所述上部环而设于该上部环的下方，包围所述载物台的侧周；和金属构件，其为了将所述等离子体向所述上部环引入而设于该上部环和所述下部环之间，自所述载物台分离并沿着所述上部环形成。
本发明授权基板处理装置和基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其中， 该基板处理装置包括： 处理容器，其具备在内部容纳基板的处理空间； 等离子体形成机构，其为了处理所述基板而在所述处理空间形成等离子体； 载物台，其为了载置所述基板而设于所述处理空间，该载物台具备平坦且垂直的外周面并且包括由金属构成的部分； 第1高频电源，其向所述载物台供给偏压用的高频； 上部环，其为绝缘体，以俯视时不与所述载物台重叠的方式包围该载物台，与所述处理空间面对地设置； 下部环，其为环状的绝缘体，为了支承所述上部环而设于该上部环的下方，包围所述载物台的侧周；以及 金属构件，其为了将所述等离子体向所述上部环吸引而设于该上部环和所述下部环之间，自所述载物台分离并且沿着所述上部环的周向形成。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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