中国人民大学涂志俊获国家专利权
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龙图腾网获悉中国人民大学申请的专利一种Bi-O-Se-Cl四组分半导体材料的单晶生长方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115948804B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310006130.5,技术领域涉及:C30B29/46;该发明授权一种Bi-O-Se-Cl四组分半导体材料的单晶生长方法是由涂志俊;雷和畅设计研发完成,并于2023-01-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种Bi-O-Se-Cl四组分半导体材料的单晶生长方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种Bi‑O‑Se‑Cl四组分半导体材料的单晶生长方法。本发明Bi‑O‑Se‑Cl四组分半导体材料的化学式为Bi1010O1212SeCl44,晶体的每个原胞中含98个原子,具有两层[Bi1212O1212Se22Cl]、两层[Bi66O1010]和四层[3Cl]沿c轴交替堆叠的层状结构。其生长方法如下:将铋粉和硒粉进行研磨混料然后使其发生固相反应,得到硒化铋;将氧化铋,氯化铋和硒化铋进行研磨混料,得到混合粉料2放入石英管底部,抽真空后封口;将封好的石英管水平放入两温区炉,开始气相输运;两温区炉的热端和冷端分别经梯度升温并进行保温,结束后将两温区炉冷却,即得到Bi1010O1212SeCl44晶体。本发明Bi1010O1212SeCl44晶体具有复杂的层状结构,是本征低热导率的候选材料,其生长方法简单可靠。
本发明授权一种Bi-O-Se-Cl四组分半导体材料的单晶生长方法在权利要求书中公布了:1.一种Bi-O-Se-Cl四组分半导体材料,其特征在于,该Bi-O-Se-Cl四组分半导体材料的化学式为Bi10O12SeCl4,为通过化学气相输运法生长的单晶,晶体的每个原胞中含98个原子,具有两层[Bi12O12Se2Cl]、两层[Bi6O10]和四层[3Cl]沿c轴交替堆叠的层状结构。
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