东京毅力科创株式会社阪上博充获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利对基板进行处理的装置和对基板进行处理的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115916673B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180050414.3，技术领域涉及：H10P72/30；该发明授权对基板进行处理的装置和对基板进行处理的方法是由阪上博充设计研发完成，并于2021-08-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本对基板进行处理的装置和对基板进行处理的方法在说明书摘要公布了：提供一种抑制所配置的设备的占用面积的增大并且利用磁悬浮对基板进行输送的技术。对基板进行处理的装置使用基板输送模块，该基板输送模块包括：载物台，其载置所述基板；行进板；以及第2磁体，其在与第1磁体之间作用有排斥力，该基板输送模块构成为能够利用磁悬浮在具有设有所述第1磁体的地面部的基板输送室内移动，使所述基板输送模块相对于设于所述基板输送室的上表面侧且朝向所述基板输送室内开设有开口部的基板处理室进行上升移动，从而将载置有所述基板的所述载物台经由所述开口部插入所述基板处理室内，利用所述行进板关闭所述开口部，在该状态下进行所述基板的处理。
本发明授权对基板进行处理的装置和对基板进行处理的方法在权利要求书中公布了：1.一种对基板进行处理的装置，其中， 该对基板进行处理的装置具备： 基板输送室，其具有设有第1磁体的地面部； 基板输送模块，其包括：载物台，其载置所述基板；行进板，其配置在所述载物台的下部侧；以及第2磁体，其在与所述第1磁体之间作用有排斥力，该基板输送模块构成为通过使用了所述排斥力的磁悬浮而能够在所述基板输送室内移动；以及 基板处理室，其设于所述基板输送室的上表面侧以对所述基板进行处理，该基板处理室朝向所述基板输送室内开设有能够使载置有所述基板的状态的所述载物台的至少局部穿过的大小的开口部， 通过使所述基板输送模块进行上升移动，从而将载置有所述基板的所述载物台经由所述开口部插入所述基板处理室内，利用所述行进板关闭所述开口部，在该状态下进行所述基板的处理， 所述基板输送模块的上升移动利用所述磁悬浮来实施， 在所述基板输送室的顶面具备支承机构，该支承机构设有在所述载物台插入于所述基板处理室内的状态下从下表面侧支承所述行进板的支承位置和从所述支承位置退避的退避位置之间移动自如的支承构件。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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