清华大学叶佐昌获国家专利权
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龙图腾网获悉清华大学申请的专利一种基于R树MBR算法的集成电路自动打孔方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114186526B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111512370.X，技术领域涉及：G06F30/394；该发明授权一种基于R树MBR算法的集成电路自动打孔方法及装置是由叶佐昌;王燕;秦仟设计研发完成，并于2021-12-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于R树MBR算法的集成电路自动打孔方法及装置在说明书摘要公布了：本申请涉及集成电路技术领域，尤其涉及一种基于R树MBR算法的集成电路自动打孔方法及装置。其中，一种基于R树MBR算法的集成电路自动打孔方法，包括：对每一个生成的金属矩形进行空间索引，确定生成的金属矩形与相邻层的金属矩形的重叠区域；保证所有重叠区域通过DRC规则检查；根据通过DRC规则检查的重叠区域，对集成电路进行自动打孔。采用上述方案的本申请通过空间索引，能够自动检索满足条件的重合区域，再根据DRC规则，对重合区域进行自动打孔，从而提高电路设计效率,缩短电路产品的上市时间。
本发明授权一种基于R树MBR算法的集成电路自动打孔方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种基于R树MBR算法的集成电路自动打孔方法，其特征在于，所述方法包括： 对每一个生成的金属矩形进行空间索引，确定生成的金属矩形与相邻层的金属矩形的重叠区域； 保证所有重叠区域通过DRC规则检查，其中，将重合、包含和相邻的重叠区域进行融合，确定所述重叠区域的数量不大于预设最小通孔数量，若大于预设最小通孔数量，则报错并重新确定重叠区域，确定所述重叠区域之间的间距不小于预设第一间距，若小于预设第一间距，则报错并重新确定重叠区域，确定所述重叠区域与金属层之间的间距不小于预设第二间距，若小于预设第二间距，则报错并重新确定重叠区域； 根据所述通过DRC规则检查的重叠区域，对集成电路进行自动打孔； 其中，在所述对每一个生成的金属矩形进行空间索引，确定生成的金属矩形与相邻层的金属矩形的重叠区域之前，还包括： 保存每一个生成的金属矩形，并将所述金属矩形添加入R树的空间索引中。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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