托托科技(苏州)有限公司严振中获国家专利权
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龙图腾网获悉托托科技(苏州)有限公司申请的专利一种能够提高图形精度的光刻系统获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223857581U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-30发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520527791.7,技术领域涉及:G03F7/20;该实用新型一种能够提高图形精度的光刻系统是由严振中;吴阳设计研发完成,并于2025-03-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种能够提高图形精度的光刻系统在说明书摘要公布了:本实用新型涉及集成电路制备技术领域,具体是一种能够提高图形精度的光刻系统,应用于曝光基底,曝光基底包括第一光刻区域和第二光刻区域,光刻系统包括间隔设置的第一光刻组件和第二光刻组件;第一光刻组件包括第一曝光光源和空间光调制器,第一曝光光源经空间光调制器后能够发射携带曝光图案的投影光至第一光刻区域;第二光刻组件包括第二曝光光源,第二曝光光源能够发射激光光束,激光光束用于投射至第二光刻区域;本实用新型将第一光刻组件和第二光刻组件组合进行光刻,既能提高光刻精度,又能提高光刻效率,从而提高光刻图形质量。
本实用新型一种能够提高图形精度的光刻系统在权利要求书中公布了:1.一种能够提高图形精度的光刻系统,应用于曝光基底,所述曝光基底包括第一光刻区域和第二光刻区域,其特征在于,所述光刻系统包括间隔设置的第一光刻组件1和第二光刻组件2; 所述第一光刻组件1包括第一曝光光源11和空间光调制器12,所述第一曝光光源11经所述空间光调制器12后能够发射携带曝光图案的投影光至所述第一光刻区域; 所述第二光刻组件2包括第二曝光光源21,所述第二曝光光源21能够发射激光光束,所述激光光束用于投射至所述第二光刻区域。
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