旭宇腾精密科技股份有限公司王春晖获国家专利权
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龙图腾网获悉旭宇腾精密科技股份有限公司申请的专利晶圆处理设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223837559U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520373856.7，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型晶圆处理设备是由王春晖设计研发完成，并于2025-03-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶圆处理设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开一种晶圆处理设备。晶圆处理设备包括处理腔、晶圆支撑加热单元、喷淋头、第一顶部气体源、第二顶部气体源、第一侧部气体源及第二侧部气体源。处理腔为用以处理晶圆的容置空间。晶圆支撑加热单元设置在处理腔中，用以承载晶圆。喷淋头对应于晶圆支撑加热单元设置在处理腔的顶部。第一顶部气体源通过第一顶部供应管连接于处理腔的上方。第二顶部气体源通过第二顶部供应管连接于处理腔的上方。第一侧部气体源通过第一侧部供应管连接于处理腔的侧壁。第二侧部气体源通过第二侧部供应管连接于处理腔的侧壁。本实用新型的晶圆处理设备能使使处理腔内气体分布均匀，来提升成膜均匀度。
本实用新型晶圆处理设备在权利要求书中公布了：1.一种晶圆处理设备，其特征在于，所述晶圆处理设备包括： 处理腔，其为用以处理晶圆的容置空间； 晶圆支撑加热单元，其设置在所述处理腔中，用以承载所述晶圆； 喷淋头，其对应于所述晶圆支撑加热单元设置在所述处理腔的顶部； 第一顶部气体源，其通过第一顶部供应管连接于所述处理腔的上方，所述第一顶部供应管设置有第一顶部供应阀； 第二顶部气体源，其通过第二顶部供应管连接于所述处理腔的上方，所述第二顶部供应管设置有第二顶部供应阀； 第一侧部气体源，其通过第一侧部供应管连接于所述处理腔的侧壁，所述第一侧部供应管设置有第一侧部供应阀；以及 第二侧部气体源，其通过第二侧部供应管连接于所述处理腔的侧壁，所述第二侧部供应管设置有第二侧部供应阀； 其中，所述第一顶部气体源与所述第二侧部气体源同时向所述处理腔供应气体，且所述第一顶部气体源及所述第二顶部气体源不会同时向所述处理腔供应气体。
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