华中科技大学张博宇获国家专利权
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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利PECVD镀膜设备的进气结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223837558U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520333381.9，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型PECVD镀膜设备的进气结构是由张博宇;曾祥斌设计研发完成，并于2025-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本PECVD镀膜设备的进气结构在说明书摘要公布了：本实用新型属于镀膜设备制造技术领域，具体涉及一种PECVD镀膜设备的进气结构，包括环形管和进气盒，环形管设于进气盒的上方，进气盒设于基材上方，环形管与进气盒通过多个连接管连接，连接管分别与环形管和进气盒相连通，环形管的外侧设有进气管一和进气管二，环形管分别与进气管一和进气管二相连通，进气管一和进气管二关于环形管的中心点中心对称，进气盒的底壁开设有多排进气孔一。本实用新型解决了现有PECVD镀膜设备的环形进气方式可能会使反应室内气场浓度分布不均匀而导致沉积在基材上的薄膜厚度不均匀的问题。
本实用新型PECVD镀膜设备的进气结构在权利要求书中公布了：1.一种PECVD镀膜设备的进气结构，其特征在于，包括环形管2和进气盒1，所述环形管2设于所述进气盒1的上方，所述进气盒1设于基材上方；所述环形管2与所述进气盒1通过多个连接管3连接，所述连接管3分别与所述环形管2和所述进气盒1相连通；所述环形管2的外侧设有进气管一4和进气管二5，所述环形管2分别与所述进气管一4和所述进气管二5相连通，所述进气管一4和所述进气管二5关于所述环形管2的中心点中心对称；所述进气盒1的底壁开设有多排进气孔一11。
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