中国电子科技集团公司第四十八研究所王建青获国家专利权
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龙图腾网获悉中国电子科技集团公司第四十八研究所申请的专利一种旋转式圆筒磁控溅射靶获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223837545U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520273055.3，技术领域涉及：C23C14/35；该实用新型一种旋转式圆筒磁控溅射靶是由王建青;于超文;何秋福;刘杰;黄也设计研发完成，并于2025-02-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种旋转式圆筒磁控溅射靶在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种旋转式圆筒磁控溅射靶，包括与真空腔室连接的盖板，盖板上设有相互绝缘的阴极组件和阳极组件，阳极组件位于阴极组件外周；阴极组件包括靶材、磁铁组件和阴极电极杆，阴极电极杆的一端连接电源负极，另一端连接磁铁组件，磁铁组件环绕在靶材上部外周，靶材下部朝向待镀膜的基片；靶材为中空的圆筒结构，中空处装有静止的中心磁铁；靶材端部与旋转驱动件转动连接，以实现靶材匀速转动；当电源通电后，在电磁场的作用下，真空腔室内的工艺气体形成等离子体以轰击靶材，并形成靶材粒子，靶材粒子溅射到基片上。本实用新型具有结构紧凑、操作简单、运行稳定且有利于提高靶材利用率等特点，显著提高了基片的镀膜效率。
本实用新型一种旋转式圆筒磁控溅射靶在权利要求书中公布了：1.一种旋转式圆筒磁控溅射靶，其特征在于，包括与真空腔室连接的盖板2，所述盖板2上设有相互绝缘的阴极组件和阳极组件，所述阳极组件位于阴极组件外周；所述阴极组件包括靶材6、磁铁组件和阴极电极杆14，所述阴极电极杆14的一端连接电源负极，阴极电极杆14的另一端连接磁铁组件，所述磁铁组件环绕在靶材6上部外周，靶材6下部朝向待镀膜的基片8；所述靶材6为中空的圆筒结构，中空处装有静止的中心磁铁9；所述靶材6的端部与旋转驱动件转动连接，以实现靶材6在真空腔室内匀速转动；当电源通电后，在电磁场的作用下，真空腔室内的工艺气体形成等离子体以轰击靶材6，并形成靶材粒子，所述靶材粒子溅射到基片8上。
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