苏州赛伍应用技术股份有限公司徐永昌获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州赛伍应用技术股份有限公司申请的专利一种晶圆背面研磨用层叠膜获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223837340U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423241940.8，技术领域涉及：C09J7/29；该实用新型一种晶圆背面研磨用层叠膜是由徐永昌;陈洪野;吴小平设计研发完成，并于2024-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种晶圆背面研磨用层叠膜在说明书摘要公布了：本实用新型涉及一种晶圆背面研磨用层叠膜，属于半导体技术领域。本实用新型的晶圆背面研磨用层叠膜包括依次设置的离型层、紫外光固化减粘层、第一缓冲层、第一基材层、第二缓冲层、第二基材层和第三缓冲层；第一缓冲层、第二缓冲层和第三缓冲层的材料均不相同。采用多层复合结构，实现对bump凸块的包埋与晶圆表面的保护。尤其是通过第一缓冲层、第二缓冲层和第三缓冲层复配，显著提高层叠膜的弹性，实现对凸起的包埋。通过紫外光固化减粘层的设计，实现了晶圆表面无污染。通过双基材层设计使层叠膜更柔韧，更具有贴服性，且对bump凸块更好的包埋性。该晶圆背面研磨用层叠膜在使用过程中，实现晶圆表面无残留、研磨后晶圆翘曲小、研磨过程不渗水。
本实用新型一种晶圆背面研磨用层叠膜在权利要求书中公布了：1.一种晶圆背面研磨用层叠膜，其特征在于，所述晶圆背面研磨用层叠膜包括依次设置的离型层、紫外光固化减粘层、第一缓冲层、第一基材层、第二缓冲层、第二基材层和第三缓冲层；所述第一缓冲层、所述第二缓冲层和所述第三缓冲层的材料均不相同。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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