江苏久吾高科技股份有限公司;南京同畅新材料研究院有限公司俞宇鹏获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏久吾高科技股份有限公司;南京同畅新材料研究院有限公司申请的专利一种半导体芯片生产制造中研磨切割液废水再利用装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223837215U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422992207.3，技术领域涉及：C02F9/00；该实用新型一种半导体芯片生产制造中研磨切割液废水再利用装置是由俞宇鹏;朱传柳;洪德立;董彦祥;剡鹏飞;章小同;高雪龙;吴小霜;彭文博;金同发设计研发完成，并于2024-12-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种半导体芯片生产制造中研磨切割液废水再利用装置在说明书摘要公布了：本实用新型涉及一种半导体芯片生产制造中研磨切割液废水再利用装置，具体涉及一研磨切割液废水回收硅粉和离子水的装置，属于水处理技术领域。包括：pH调节池，用于对废水的pH进行调节，并且还包括用于向pH调节池中加入酸液的酸液罐；陶瓷膜，用于对pH调节池中的废水进行过滤处理；板框压滤机，连接于陶瓷膜的截留侧，用于将陶瓷膜中获得的浓缩浆料进行固液分离获得硅粉废料；第一级反渗透膜，连接于陶瓷膜的渗透侧，用于对陶瓷膜的渗透液进行过滤处理；第二级反渗透膜，连接于第一级反渗透膜的渗透侧，用于对第一级反渗透膜的渗透液进行过滤处理，获得去离子水。
本实用新型一种半导体芯片生产制造中研磨切割液废水再利用装置在权利要求书中公布了：1.一种半导体芯片生产制造中研磨切割液废水再利用装置，其特征在于，包括： pH调节池1，用于对废水的pH进行调节，并且还包括用于向pH调节池中加入酸液的酸液罐2； 陶瓷膜3，用于对pH调节池中的废水进行过滤处理； 板框压滤机4，连接于陶瓷膜3的截留侧，用于将陶瓷膜3中获得的浓缩浆料进行固液分离获得硅粉废料； 第一级反渗透膜5，连接于陶瓷膜3的渗透侧，用于对陶瓷膜3的渗透液进行过滤处理； 第二级反渗透膜6，连接于第一级反渗透膜5的渗透侧，用于对第一级反渗透膜5的渗透液进行过滤处理，获得去离子水。
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