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龙图腾网获悉成都光明南方光学科技有限责任公司申请的专利一种基于可变容积腔体的模具表面碳膜层的高效脱膜设备及脱膜方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121038082B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511525829.8，技术领域涉及：H05H1/46；该发明授权一种基于可变容积腔体的模具表面碳膜层的高效脱膜设备及脱膜方法是由王博;杜重洋;王昕蕾;向青云;文志鹏;任晋升设计研发完成，并于2025-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于可变容积腔体的模具表面碳膜层的高效脱膜设备及脱膜方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于可变容积腔体的模具表面碳膜层的高效脱膜设备及脱膜方法，涉及精密模具表面处理技术领域，本发明提出容积自适应腔体设计与工艺参数动态匹配策略，通过设置可变容积腔体模块和内置特定算法动态的控制单元，结合射频频率、气体流量、温度等参数的动态匹配，实现了“腔体容积变化‑工艺参数自适应‑退膜效果最优”的闭环控制，实现不同规格模具的高效、均匀退膜，从而有效解决了现有真空等离子体碳膜层脱除法存在局限性。

本发明授权一种基于可变容积腔体的模具表面碳膜层的高效脱膜设备及脱膜方法在权利要求书中公布了：1.一种基于可变容积腔体的模具表面碳膜层脱膜方法，其特征在于，包括如下步骤： 1腔体容积适配：根据待脱膜模具的尺寸及批量，选择或调整可变容积腔体模块的容积； 2真空环境构建：将待脱膜模具放置于腔体内的导体盘上，关闭腔盖，通过真空系统抽真空至腔内压力≤10Pa； 3动态参数调控：输入腔体容积，控制单元根据腔体容积自动调整或手动输入工艺参数，容积-参数匹配算法具体为： 射频电源频率f=13+0.2×V-10； 等离子体电流I=0.6+0.04×V； 氧流量Q=10×V； 反应温度T=200-2×V-10； 单次循环有效反应时间t=25+0.5×V-10； 占空比D=50+1×V-10； 上述各式中，V为腔体容积，单位L；f为射频电源频率，单位MHz；I为等离子体电流，单位A；Q为氧流量，单位sccm；T为反应温度，单位℃；t为单次循环内有效反应时间，单位min；D为占空比，单位%； 4等离子体反应：向真空腔内通入强氧化性反应气体，并稳定一段时间，开启射频电源，使反应气体电离为带电等离子体，定向轰击模具表面碳膜层，通过物理与化学作用使碳原子反应气化并随真空系统排出； 5实时反馈调节：监测腔内等离子体电流及温度，通过PID算法微调气体流量及射频功率，确保退膜均匀性，其中，PID算法具体为： 等离子体电流偏差eI=I0-It； 反应温度偏差eT=T0-Tt； 氧流量微调量ΔQ=Kp1×eI+Ki1×∫eIdt+Kd1×deIdt，其中Kp1=5，Ki1=0.2，Kd1=0.5； 射频功率微调量ΔP=Kp2×eT+Ki2×∫eTdt+Kd2×deTdt，其中Kp2=3，Ki2=0.1，Kd2=0.3； 上述各式中，I0为初始计算得到的等离子体电流，单位A；It为实时检测等离子体电流，单位A；T0为初始计算得到的反应温度，单位℃；Tt为实时检测反应温度，单位℃；Kp1、Ki1、Kd1为氧流量微调的比例、积分、微分系数；Kp2、Ki2、Kd2为射频功率微调的比例、积分、微分系数；ΔQ为氧流量微调量，单位sccm；ΔP为射频功率微调量，单位W； 6循环与终止：每30分钟停止反应并观察退膜效果，停歇5-10分钟后重复步骤3-5，直至碳膜层全部或大部分去除，关闭射频电源，打开排气阀释放腔体内气体，打开腔体盖取出模具。

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