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龙图腾网获悉中国核动力研究设计院申请的专利管状结构的氧化膜基体界面试样的制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121026723B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511577207.X，技术领域涉及：G01N1/28；该发明授权管状结构的氧化膜基体界面试样的制作方法是由徐锡语;滕常青;吴璐;张伟;闫青雪;斯嘉轩;董长风;毛建军;谢东升;富童;方忠强设计研发完成，并于2025-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本管状结构的氧化膜基体界面试样的制作方法在说明书摘要公布了：本申请实施例涉及电子显微镜样品制作技术领域，公开了一种管状结构的氧化膜基体界面试样的制作方法，包括：在管状结构上截取具有氧化层的部分结构作为试样片，试样片包括基体、氧化膜以及位于基体与氧化膜之间的氧化膜基体界面；获取氧化层的厚度；若氧化层的厚度大于第一厚度阈值，则将氧化层的厚度减小至小于或等于第一厚度阈值；若氧化层的厚度小于或等于第一厚度阈值，则不对试样片进行预处理；对试样片进行粗修加工，以再次减小氧化层的厚度；对试样片进行精修加工，将氧化膜基体界面的厚度减小至小于第二厚度阈值。该制作方法克服了以往氧化膜基体界面内应力大以及容易产生大量的裂纹的难题。

本发明授权管状结构的氧化膜基体界面试样的制作方法在权利要求书中公布了：1.一种管状结构的氧化膜基体界面试样的制作方法，其特征在于，包括： 在管状结构上截取具有氧化层的部分结构作为试样片，所述试样片包括基体、氧化膜以及位于所述基体与所述氧化膜之间的氧化膜基体界面； 获取所述氧化层的厚度； 若所述氧化层的厚度大于第一厚度阈值，则采用聚焦离子束显微镜对所述试样片进行预处理，以将所述氧化层的厚度减小至小于或等于所述第一厚度阈值；若所述氧化层的厚度小于或等于第一厚度阈值，则不对所述试样片进行预处理； 采用所述聚焦离子束显微镜对所述试样片进行粗修加工，以再次减小所述氧化层的厚度，并确保所述氧化膜基体界面的任意位置的厚度大于或等于第二厚度阈值； 采用所述聚焦离子束显微镜对所述试样片进行精修加工，以去除所述试样片的表面损伤以及在制作过程中所产生的非晶层，并将所述氧化膜基体界面的厚度减小至小于所述第二厚度阈值； 所述聚焦离子束显微镜包括能够发射离子束的发射模块，所述采用聚焦离子束显微镜通过离子束对所述试样片进行预处理，包括： 控制所述发射模块向所述试样片发射离子束，所述离子束的入射方向为从所述氧化膜背离所述基体的一侧至所述氧化膜基体界面； 所述采用所述聚焦离子束显微镜对所述试样片进行粗修加工，包括： 控制所述发射模块向所述试样片多次发射离子束，逐步减小所述离子束在所述试样片上的照射区域宽度，并相应地逐步减小所述离子束的电流； 所述焦离子束显微镜还包括微束定点精修系统，所述微束定点精修系统所发射的离子束的最小束流直径小于所述发射模块所发射的离子束的最小束流直径，并且所述微束定点精修系统所发射的离子束对所述试样片的最小穿透深度小于所述发射模块所发射的离子束对所述试样片的最小穿透深度，所述采用所述聚焦离子束显微镜对所述试样片进行精修加工，包括： 将所述试样片转移至所述微束定点精修系统的工作区域； 通过所述微束定点精修系统对所述试样片进行精修加工。

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