盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛帷半导体设备(上海)有限公司苏政获国家专利权
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龙图腾网获悉盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛帷半导体设备(上海)有限公司申请的专利供液装置、清洗装置、清洗方法及计算机可读介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120767230B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511292108.7,技术领域涉及:H10P72/00;该发明授权供液装置、清洗装置、清洗方法及计算机可读介质是由苏政;贾社娜;李彬;邓新平设计研发完成,并于2025-09-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本供液装置、清洗装置、清洗方法及计算机可读介质在说明书摘要公布了:本申请公开了一种供液装置、清洗装置、清洗方法及计算机可读介质,供液装置包括喷嘴、防溅罩、吸收组件和冲洗管路,喷嘴用于向基板的表面供应处理液;防溅罩设置于喷嘴的外周,防溅罩具有抽吸口;吸收组件包括吸收通道和抽吸装置,吸收通道用于通过抽吸口与防溅罩的内侧连通,抽吸装置用于通过吸收通道抽吸防溅罩的内侧的气体;以及冲洗管路与吸收通道连接,用于向吸收通道通入冲洗液,以冲洗吸收通道。本申请能够将吸收通道内的结晶等冲洗干净,避免影响吸收通道的吸收效果,以及避免结晶掉落至基板的表面造成污染。
本发明授权供液装置、清洗装置、清洗方法及计算机可读介质在权利要求书中公布了:1.一种供液装置,其特征在于,包括: 喷嘴,用于向基板的表面供应处理液; 防溅罩,设置于所述喷嘴的外周,所述防溅罩具有抽吸口; 吸收组件,包括吸收通道和抽吸装置,所述吸收通道的第一端用于通过所述抽吸口与所述防溅罩的内侧连通,所述抽吸装置与所述吸收通道的第二端连接,用于通过所述吸收通道抽吸所述防溅罩的内侧的气体;以及 冲洗管路,与所述吸收通道的第二端连接,用于向所述吸收通道通入冲洗液,以冲洗所述吸收通道。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛帷半导体设备(上海)有限公司,其通讯地址为:201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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