中国电子科技集团公司第五十四研究所刘亚昆获国家专利权
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龙图腾网获悉中国电子科技集团公司第五十四研究所申请的专利一种基于双功能单元和协同布阵设计的低散射阵列天线获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120601162B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511106008.0,技术领域涉及:H01Q21/06;该发明授权一种基于双功能单元和协同布阵设计的低散射阵列天线是由刘亚昆;杜彪;贾丹设计研发完成,并于2025-08-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于双功能单元和协同布阵设计的低散射阵列天线在说明书摘要公布了:本发明公开了一种基于双功能单元和协同布阵设计的低散射阵列天线,属于阵列天线隐身设计技术领域,其由参考阵列单元和双功能单元协同组阵,形成4×4的二维阵列天线,沿同极化方向,具有四行;其中,第一行和第四行均设有4个双功能单元,第二行和第三行均设有4个参考阵列单元。参考阵列单元包括自上而下依次放置的辐射贴片、介质层和金属地板;介质层中设置有L型馈电结构。双功能单元与参考阵列单元区别是其辐射贴片上设有三条相互平行的直型缝隙,且直型缝隙贯穿辐射贴片。本发明设计的阵列天线具有辐射散射一体化、宽频带双极化低散射的优势,可满足隐身需求。
本发明授权一种基于双功能单元和协同布阵设计的低散射阵列天线在权利要求书中公布了:1.一种基于双功能单元和协同布阵设计的低散射阵列天线,其特征在于,参考阵列单元5和双功能单元6协同组阵形成4×4的二维阵列天线; 沿同极化方向,具有四行;其中,第一行和第四行均设有4个双功能单元6,第二行和第三行均设有4个参考阵列单元5; 所述参考阵列单元5和双功能单元6两者的传输和辐射特性相同;两者的同极化散射场具备幅度相等和相位相反的特性,且双功能单元6的交叉极化散射场具备低散射特性; 所述参考阵列单元5和双功能单元6均包括自上而下依次放置的辐射贴片、介质层和金属地板;所述介质层中设置有L型馈电结构;辐射贴片的半径为D,D=17~19mm;介质层的边长为L1,L1=29~31mm,厚度为H1,H1=6mm; 所述双功能单元6的辐射贴片上设有三条相互平行的直型缝隙,从左至右依次为第一直型缝隙11.1、第二直型缝隙11.2和第三直型缝隙11.3,其中第二直型缝隙的几何中心和其所在辐射贴片的几何中心重合;第一直型缝隙11.1与第三直型缝隙11.3几何中心距所在辐射贴片几何中心为Y1,Y1=5~7mm;第一直型缝隙11.1、第二直型缝隙11.2与第三直型缝隙11.3的宽度为W2,W2=1~2mm;第一直型缝隙11.1、第二直型缝隙11.2与第三直型缝隙11.3在同极化方向上均贯穿所在辐射贴片; 所述L型馈电结构包括金属同轴13.1和馈电微带线13.2;所述馈电微带线13.2预埋于介质层中并位于辐射贴片的正下方;金属同轴13.1垂直于其上方的辐射贴片且其内导体顶端与馈电微带线13.2连接,金属同轴13.1外导体与金属地板连接;在双功能单元6中,馈电微带线13.2平行于辐射贴片上的直型缝隙; 所述金属地板上设有耦合缝隙,耦合缝隙与馈电微带线垂直;在双功能单元6中,耦合缝隙与辐射贴片上的直型缝隙垂直。
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