上海积塔半导体有限公司郭丽娜获国家专利权
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龙图腾网获悉上海积塔半导体有限公司申请的专利半导体测试结构及其测试方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119920801B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510101335.0,技术领域涉及:H10W46/00;该发明授权半导体测试结构及其测试方法是由郭丽娜;刘翔设计研发完成,并于2025-01-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体测试结构及其测试方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种半导体测试结构及其测试方法。半导体测试结构设置于晶圆的划片道上,包括:晶体管,包括衬底、源极、漏极和栅极;电熔丝,包括第一端和第二端;其中,源极通过第一金属线电连接至第一焊盘,电熔丝的第二端通过第二金属线电连接至第二焊盘,漏极、衬底以及电熔丝的第一端分别通过相应的第三金属线电连接至第三焊盘,栅极通过第四金属线电连接至第四焊盘,通过采用预设规则对第一焊盘、第二焊盘、第三焊盘、第四焊盘施加电压以测试电熔丝的电阻以及测试晶体管的性能。上述技术方案可以在晶圆制造过程中实现线内同时监控电熔丝的电阻和晶体管的性能,快速调整工艺,提高工艺的灵活性。
本发明授权半导体测试结构及其测试方法在权利要求书中公布了:1.一种半导体测试结构,其特征在于,所述半导体测试结构设置于晶圆的划片道上,包括:晶体管,包括衬底、源极、漏极和栅极;电熔丝,包括第一端和第二端;其中,所述源极通过第一金属线电连接至第一焊盘,所述电熔丝的第二端通过第二金属线电连接至第二焊盘,所述漏极、所述衬底以及所述电熔丝的第一端分别通过相应的第三金属线电连接至第三焊盘,所述栅极通过第四金属线电连接至第四焊盘,通过采用预设规则对所述第一焊盘、所述第二焊盘、所述第三焊盘、所述第四焊盘施加电压以测试所述电熔丝的电阻以及测试所述晶体管的性能;在测试完所述电熔丝的电阻及所述晶体管的性能之后,通过在所述第一焊盘、所述第二焊盘以及所述第四焊盘施加编程电压能够对所述电熔丝进行编程。
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