京东方科技集团股份有限公司于勇获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利发光模组和显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119439555B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310948770.8,技术领域涉及:G02F1/13357;该发明授权发光模组和显示装置是由于勇;李菲菲;岳阳;李翔;刘鑫华;李少辉;舒适;徐传祥设计研发完成,并于2023-07-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本发光模组和显示装置在说明书摘要公布了:本公开实施例提供一种发光模组和显示装置。发光模组包括基底,以及在基底的第二侧依次设置的透反膜层、颜色调制层、光线调制层和发光器件,发光器件产生的第一光线中的至少一部分透过光线调制层进入颜色调制层,颜色调制层被配置为将接收到的第一光线调制为第二光线,第二光线的一部分透过透反膜层朝向基底的第一侧方向出射,第二光线的一部分被透反膜层反射后进入光线调制层,光线调制层被配置为对接收到的预设角度的第三光线进行调制后使得第三光线从透反膜层的外围朝向基底的第一侧方向出射。本公开的技术方案,提高了发光模组的子发光区域的出光均一性,提高了发光模组整体出光均一性。
本发明授权发光模组和显示装置在权利要求书中公布了:1.一种发光模组,其特征在于,包括: 基底,所述基底具有相对设置的第一侧和第二侧; 透反膜层,位于所述基底的第二侧,所述透反膜层允许接收到的光线中的一部分透过,并将接收到的光线中的一部分反射; 颜色调制层,位于所述透反膜层的背离所述基底的一侧,所述颜色调制层在所述基底上的正投影位于所述透反膜层在所述基底上的正投影内; 光线调制层,位于所述颜色调制层的背离所述基底的一侧; 发光器件,位于所述光线调制层的背离所述基底的一侧,所述发光器件与所述颜色调制层相对应; 所述发光器件产生的第一光线中的至少一部分透过所述光线调制层进入所述颜色调制层,所述颜色调制层被配置为将接收到的所述第一光线调制为第二光线,所述第二光线的一部分透过所述透反膜层朝向所述基底的第一侧方向出射,所述第二光线的一部分被所述透反膜层反射后进入所述光线调制层,所述光线调制层被配置为对接收到的预设角度的第三光线进行调制后使得所述第三光线从所述透反膜层的外围朝向所述基底的第一侧方向出射; 其中,所述光线调制层包括取光结构和波导结构层,所述取光结构位于所述基底的第二侧,所述取光结构在所述基底上的正投影位于所述透反膜层在所述基底上的正投影的外围,所述波导结构层位于所述取光结构的背离所述基底的一侧;所述第二光线的一部分被所述透反膜层反射后进入所述波导结构层,所述波导结构层被配置为将接收到的所述第三光线传输至所述取光结构,所述取光结构被配置为将所述第三光线取出,所述第三光线朝向所述基底的第一侧方向出射。
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