京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方瑞晟科技有限公司张建英获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方瑞晟科技有限公司申请的专利一种显示基板及其制备方法、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118974927B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280003808.8，技术领域涉及：H10D86/40；该发明授权一种显示基板及其制备方法、显示装置是由张建英;田健;刘纯建;马亚军;雷杰;程囡;卢鑫泓设计研发完成，并于2022-10-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种显示基板及其制备方法、显示装置在说明书摘要公布了：一种显示基板及其制备方法，显示装置。所述显示基板包括基底结构层；所述基底结构层包括层叠设置的基底材料层、牺牲层以及位于所述基底材料层与所述牺牲层之间的光学膜层；所述光学膜层的反射率大于所述光学膜层的透过率。
本发明授权一种显示基板及其制备方法、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，包括基底结构层；所述基底结构层包括层叠设置的基底材料层、牺牲层以及位于所述基底材料层与所述牺牲层之间的光学膜层；所述光学膜层的反射率大于所述光学膜层的透过率； 所述光学膜层包括至少一个第一介质层和至少一个第二介质层，且所述第一介质层的折射率小于所述第二介质层的折射率；所述第一介质层和所述第二介质层沿着远离所述牺牲层的方向交叠设置；所述第一介质层的材料为Nb2O5，所述第二介质层的材料为SiO2，或者，所述第一介质层的折射率范围为1.4至1.6，所述第二介质层的折射率范围为2.0至2.3； 所述光学膜层中与所述基底材料层相邻的膜层的折射率大于所述基底材料层的折射率，所述光学膜层中与所述牺牲层相邻的膜层的折射率大于所述牺牲层的折射率； 所述基底材料层包括聚酰亚胺、聚丙烯酸酯、聚苯硫醚、聚芳酯、乙酸丙酸纤维素、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚醚砜树脂、聚碳酸酯、聚醚酰亚胺、环烯烃聚合物、硅胶树脂、多芳基化合物或者玻璃纤维增强塑料中的一种或者多种的混合物； 所述牺牲层的折射率范围在1.65至1.80范围内。
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