买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉郑州大学;中原关键金属实验室申请的专利用于RPD薄膜的氧化钽掺杂氧化锡靶材的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118063206B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410243188.6，技术领域涉及：C04B35/457；该发明授权用于RPD薄膜的氧化钽掺杂氧化锡靶材的制备方法是由陈杰;王诗;王海龙;孙本双;何季麟设计研发完成，并于2024-03-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于RPD薄膜的氧化钽掺杂氧化锡靶材的制备方法在说明书摘要公布了：本发明实施例公开的用于RPD薄膜的氧化钽掺杂氧化锡靶材的制备方法，包括步骤：S1、氧化锡、氧化钽、分散剂、去离子水按照设定比例进行一次球磨混合，得到一次混合浆料；S2、将一次混合浆料烘干，然后粉碎成粉料，选取粒径小于80～200目的粉料；S3、步骤S2得到的粉料进行煅烧处理，收集煅烧粉体；S4、煅烧粉体、粘结剂、分散剂和去离子水按照设定比例进行第二次球磨混合，得到二次浆料；S5、将二次浆料进行喷雾造粒，得到球形颗粒粉体；S6、球形颗粒粉体模压成型，得到靶材素坯；S7、靶材素坯进行等静压压制，得到低密度靶材素坯；S8、低密度靶材素坯进行烧结，得到用于RPD薄膜的氧化钽掺杂氧化锡靶材。

本发明授权用于RPD薄膜的氧化钽掺杂氧化锡靶材的制备方法在权利要求书中公布了：1.用于RPD薄膜的氧化钽掺杂氧化锡靶材的制备方法，其特征在于，包括步骤： S1、氧化锡、氧化钽、分散剂、去离子水按照设定比例进行一次球磨混合，得到一次混合浆料；其中，氧化锡与氧化钽的质量比为90～99:1～10，一次混合浆料中去离子水的质量含量为50～70％，分散剂的质量含量为0.25～1.5％；一次球磨混合在球磨机中进行，球磨机转速设定为280～350rmin，球料比为3:1，球磨时间4～18小时，当混合浆料的D50为0.3～0.7μm时结束球磨； S2、将一次混合浆料烘干，然后粉碎成粉料，选取粒径小于80～200目的粉料； S3、步骤S2得到的粉料进行煅烧处理，收集煅烧粉体；其中，煅烧温度为950～1500℃，煅烧时间为2～8h； S4、煅烧粉体、粘结剂、分散剂和去离子水按照设定比例进行第二次球磨混合，得到二次浆料；其中，二次浆料中分散剂的质量含量为0.5～2％，去离子水的质量含量为50～70％，粘结剂的质量含量为0.5～2％；二次球磨混合在球磨机中进行，包括：煅烧粉体、分散剂和去离子水按照设定比例进行第二次球磨混合，球磨机转速设定为280～360rmin，球料比为3:1，球磨时间12～25小时；然后加入粘结剂，继续球磨1.5～4h； S5、将二次浆料进行喷雾造粒，得到球形颗粒粉体；其中，喷雾造粒温度为195～225℃，进料速率为5～15mlmin，离心机频率为30～50Hz； S6、球形颗粒粉体模压成型，得到靶材素坯；其中，模压成型压力为30～50Mpa，保压时间为3～10min； S7、靶材素坯进行等静压压制，得到相对密度为50～65％的低密度靶材素坯；其中，等静压压力为100～300MPa，保压时间3～30min； S8、低密度靶材素坯进行烧结，得到用于RPD薄膜的氧化钽掺杂氧化锡靶材；其中，烧结温度为1100～1600℃，烧结时间为3～12小时。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人郑州大学;中原关键金属实验室，其通讯地址为：450001 河南省郑州市高新技术开发区科学大道100号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。