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龙图腾网获悉万华化学集团股份有限公司申请的专利一种制备低氯代杂质异氰酸酯的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117362198B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311321017.2，技术领域涉及：C07C263/10；该发明授权一种制备低氯代杂质异氰酸酯的方法是由董超;周宇杰;黄荐;文放;张宏科设计研发完成，并于2023-10-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种制备低氯代杂质异氰酸酯的方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种制备低氯代杂质异氰酸酯的方法，属于异氰酸酯技术领域，本发明所述方法在异氰酸酯精制前，进行了两方面的预处理，一方面，对光气化反应液采用环烷烃进行萃取，在光气脱除之前脱除脲和碳化二亚胺等不溶物，有效降低了光气加合物的生成，另一方面，收集光气合成尾气、光气化反应尾气、异氰酸酯精制尾气并按目标气体组成将它们混合作为气提剂，在光气脱除阶段进行气提处理，通过控制气提剂来源及气体组成，可以快速脱除光气，抑制异氰酸酯的高温聚合和光气加合物的生成，从根源上降低氯代异氰酸酯杂质的生成，产品质量得到显著提升。

本发明授权一种制备低氯代杂质异氰酸酯的方法在权利要求书中公布了：1.一种制备低氯代杂质异氰酸酯的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤： a、光气合成反应：将氯气和过量一氧化碳反应生成混光气，所述混光气经冷凝后得到新鲜光气和光气合成尾气； b、光气化反应：将液相胺流股与步骤a所述新鲜光气混合进行光气化反应，得到光气化反应液和光气化反应尾气； c、反应液预处理：将步骤b所述光气化反应液采用环烷烃进行萃取，经萃取剂脱除，制得预处理液； d、光气脱除：采用气提剂对步骤c所述预处理液进行光气脱除，制得脱光气液； e、异氰酸酯精制：将步骤d所述脱光气液经过溶剂脱除、精制，得到产品异氰酸酯和异氰酸酯精制尾气； 其中，步骤d所述气提剂为步骤a所述光气合成尾气、步骤b所述光气化反应尾气、步骤e所述异氰酸酯精制尾气混合得到的组合气体；所述气提剂的组成包括CO、CO2、HCl；其中，CO2与CO的摩尔比为0.5-8:1，HCl与CO的摩尔比为1-20:1； 其中，步骤b中，所述液相胺流股是分子结构表达式为RNH2n的胺和惰性溶剂形成的溶液；其中，R为C4-C15的脂肪族或芳香族烃基，n为1-10的整数； 其中，步骤c中，所述环烷烃为环戊烷和或环己烷。

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