江苏科技大学宋艳华获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏科技大学申请的专利高选择性的K+插层多孔层状g-C3N4的制备方法和光催化应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117019194B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310893754.3，技术领域涉及：B01J27/24；该发明授权高选择性的K+插层多孔层状g-C3N4的制备方法和光催化应用是由宋艳华;郑泽恩;周成谦设计研发完成，并于2023-07-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本高选择性的K+插层多孔层状g-C3N4的制备方法和光催化应用在说明书摘要公布了：本发明属于光催化材料技术领域，涉及一种高选择性的K++插层多孔层状g‑C33N44的制备方法：将硫脲、氯化铵和氯化钾充分研磨，得到白色固体混合物，其中，所述的硫脲、氯化铵和氯化钾的质量比为1：2～6：0.015～0.09；将所得的白色固体混合物以升温速率为1～3℃min升至500～550℃煅烧3～5h，冷却至室温后，将所得黄色固体清洗和干燥，即得。本发明还公开了将所述材料应用于光催化产H22O22中。本发明所制备的K++插层多孔层状g‑C33N44具有窄的带隙和增强的还原能力，K++的引入可以有效抑制光生载流子的复合，多孔结构可以显著提高2e‑‑ORR选择性，从而极大地改善了K++插层多孔层状g‑C33N44的光催化产H22O22性能。
本发明授权高选择性的K+插层多孔层状g-C3N4的制备方法和光催化应用在权利要求书中公布了：1.一种高选择性的K+插层多孔层状g-C3N4的应用，其特征在于，将其应用于光催化产H2O2，包括如下步骤： S1、取高选择性的K+插层多孔层状g-C3N4于反应容器中，加入乙醇水溶液，搅拌使K+插层多孔层状g-C3N4在乙醇水溶液中分散均匀； S2、将反应容器置于光催化反应器中，持续搅拌，300W氙灯光照，波长λ≥420nm，得到H2O2； 其中，步骤S1中所述高选择性的K+插层多孔层状g-C3N4，其制备方法包括如下步骤： 1将硫脲、氯化铵和氯化钾充分研磨，得到白色固体混合物，其中，所述的硫脲、氯化铵和氯化钾的质量比为1：2～6：0.015～0.09； 2将所得的白色固体混合物以升温速率为1～3℃min升至500～550℃煅烧3～5h，冷却至室温后，将所得黄色固体经研磨成粉，用60℃蒸馏水清洗、离心、干燥，制得K+插层多孔层状g-C3N4。
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