株式会社斯库林集团根来世获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利基板处理方法以及基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116097406B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180053024.1，技术领域涉及：H10P50/64；该发明授权基板处理方法以及基板处理装置是由根来世;小林健司设计研发完成，并于2021-07-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法以及基板处理装置在说明书摘要公布了：通过将碱性的第1蚀刻液供应给基板，而对表示单晶硅与多晶硅中的至少一者的蚀刻对象物施行蚀刻。在将第1蚀刻液供应给基板前或供应后，将碱性的第2蚀刻液供应给基板，而对蚀刻对象物施行蚀刻；该第2蚀刻液含有阻碍氢氧化物离子与蚀刻对象物接触的化合物，且对硅的110面、100面、及111面的蚀刻速度的最大值与最小值差比第1蚀刻液小，蚀刻速度的最大值比第1蚀刻液小。
本发明授权基板处理方法以及基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，对含有表示单晶硅与多晶硅中的至少一者的蚀刻对象物的基板进行处理，包括： 第1蚀刻步骤，通过将碱性的第1蚀刻液供应给上述基板，而对上述蚀刻对象物施行蚀刻；以及 第2蚀刻步骤，在上述第1蚀刻液供应给上述基板之前或供应后，通过将碱性的第2蚀刻液供应给上述基板，而对上述蚀刻对象物施行蚀刻，该第2蚀刻液含有会阻碍氢氧化物离子与上述蚀刻对象物接触的化合物，且对硅的110面、100面、及111面的蚀刻速度的最大值与最小值差比上述第1蚀刻液小，上述蚀刻速度的上述最大值比上述第1蚀刻液小， 上述第1蚀刻液是含有上述化合物的碱性的蚀刻液； 上述第1蚀刻液与第2蚀刻液在成分、浓度及温度中的至少一项上互异。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人株式会社斯库林集团，其通讯地址为：日本京都府；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励