京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司张东东获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司申请的专利天线及其制备方法、通信系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116075980B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180002344.4,技术领域涉及:H01Q1/38;该发明授权天线及其制备方法、通信系统是由张东东;王亚丽;吴倩红;张亚飞;贾孟文;曲峰;李必奇设计研发完成,并于2021-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本天线及其制备方法、通信系统在说明书摘要公布了:本公开提供一种天线及其制备方法、通信系统,属于通信技术领域。本公开的天线,其包括:介质层;第一电极,设置在所述介质层上,且所述第一电极具有至少一个第一开口;至少一个辐射结构,设置在所述介质层背离所述第一电极的一侧,且所述辐射结构在所述介质层上的正投影位于所述第一开口在所述介质层的正投影内;至少一条第一馈线和至少一条第二馈线,设置在所述介质层背离所述第一电极的一侧,且一个所述辐射结构分别电连接一条所述第一馈线和一条所述第二馈线;其中,以在所述天线的长度方向且贯穿所述第一开口中心的直线为对称轴,连接同一所述辐射结构的所述第一馈线和所述第二馈线对称设置。
本发明授权天线及其制备方法、通信系统在权利要求书中公布了:1.一种天线,其包括: 介质层; 第一电极,设置在所述介质层上,且所述第一电极具有至少一个第一开口;所述第一电极还包括填充在所述第一开口中的第一冗余电极,所述第一冗余电极与所述第一电极同层设置,所述第一冗余电极包括金属网格结构,所述第一冗余电极与所述第一电极在结构上断开且二者相互电隔离; 至少一个辐射结构,设置在所述介质层背离所述第一电极的一侧,且所述辐射结构在所述介质层上的正投影位于所述第一开口在所述介质层的正投影内; 至少一条第一馈线和至少一条第二馈线,设置在所述介质层背离所述第一电极的一侧,且一个所述辐射结构分别电连接一条所述第一馈线和一条所述第二馈线;其中,以贯穿所述第一开口中心、且平行于所述第一电极所在平面的直线为对称轴,连接同一所述辐射结构的所述第一馈线和所述第二馈线对称设置。
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