北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司周超获国家专利权
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龙图腾网获悉北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利显示面板、显示装置、三维微结构器件及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115072653B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210673143.3，技术领域涉及：B81C1/00；该发明授权显示面板、显示装置、三维微结构器件及其制备方法是由周超;史迎利;梁魁设计研发完成，并于2022-06-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示面板、显示装置、三维微结构器件及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种显示面板、显示装置、三维微结构器件及其制备方法；制备方法包括：制备功能层、薄膜执行器和器件层，所述薄膜执行器位于所述功能层和所述器件层之间；执行设定工艺使所述薄膜执行器膨胀，以使所述功能层远离所述器件层；在所述功能层远离所述器件层的状态下，加工所述器件层或所述功能层，以制备所述三维微结构器件。上述方法能够提高三维微机械结构的工艺精度，保证了三维微结构器件的产品性能和良品率。
本发明授权显示面板、显示装置、三维微结构器件及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种三维微结构器件的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括： 制备功能层、薄膜执行器和器件层，所述薄膜执行器位于所述功能层和所述器件层之间； 执行设定工艺使所述薄膜执行器膨胀，以使所述功能层远离所述器件层； 在所述功能层远离所述器件层的状态下，加工所述器件层或所述功能层，以制备所述三维微结构器件； 所述执行设定工艺使所述薄膜执行器膨胀，以使所述功能层远离所述器件层，包括： 执行设定工艺使所述薄膜执行器膨胀，推动所述器件层的接触区域远离所述功能层，并使所述接触区域与周边区域趋于同一平面； 其中，所述接触区域为所述器件层与所述薄膜执行器接触的区域，所述周边区域为所述器件层与所述接触区域相连的区域。
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