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龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114551304B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210184346.6，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理装置是由太田乔;相原友明;林昌之;奥田次郎;山田邦夫设计研发完成，并于2018-05-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供基板处理装置，具备：基板保持单元，将基板保持为水平；处理液供给单元，具有喷出处理液的处理液喷嘴，向基板的上表面供给处理液；移动单元，使处理液供给单元在处理液喷嘴与基板的上表面相对的处理位置和处理液喷嘴从与基板的上表面相对的位置退避的退避位置之间移动，处理液供给单元具有：第一流路，形成于处理液喷嘴，在处理液供给单元位于处理位置的状态下，一端部与基板的中央区域相对且另一端部与基板的外周区域相对；第二流路，从第一流路的一端部折返延伸，向第一流路的一端部供给处理液；多个喷出口，形成于处理液喷嘴，沿着第一流路延伸的方向排列，向基板的上表面喷出第一流路内的处理液。

本发明授权基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其中，具备： 基板保持单元，将基板保持为水平； 处理液供给单元，具有喷出处理液的处理液喷嘴，向所述基板的上表面供给处理液；以及 移动单元，使所述处理液供给单元在处理位置和退避位置之间移动，所述处理位置是所述处理液喷嘴与所述基板的上表面相对的位置，所述退避位置是所述处理液喷嘴从与所述基板的上表面相对的位置退避的位置， 所述处理液供给单元还具有： 第一流路，形成于所述处理液喷嘴，在所述处理液供给单元位于所述处理位置的状态下，该第一流路的一端部与所述基板的中央区域相对且该第一流路的另一端部与所述基板的外周区域相对； 第二流路，从所述第一流路的所述一端部折返并水平地延伸，向所述第一流路的所述一端部供给处理液； 折返流路，连接所述第一流路的所述一端部与所述第二流路，从所述第二流路向下方延伸；以及 多个喷出口，形成于所述处理液喷嘴，沿着所述第一流路延伸的方向排列，向所述基板的上表面喷出所述第一流路内的处理液， 该基板处理装置还具备吸引单元，该吸引单元吸引所述第一流路内的处理液， 所述吸引单元包括：吸引流路，在所述第一流路的所述一端部的附近连接于所述第二流路和折返流路交叉的部分；以及吸引装置，经由所述吸引流路对所述第一流路的内部进行吸引。

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