ASML荷兰有限公司T·W·德赖森获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利极紫外光源中的目标提供控制装置和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113475164B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080016586.4，技术领域涉及：H05G2/00；该发明授权极紫外光源中的目标提供控制装置和方法是由T·W·德赖森设计研发完成，并于2020-02-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本极紫外光源中的目标提供控制装置和方法在说明书摘要公布了：一种用于极紫外EUV光源的目标装置300包括目标发生器、传感器模块130和目标发生器控制器325。目标发生器包括被配置为容纳在等离子体状态下产生EUV光的目标材料114的容器115和与容器流体连通的喷嘴结构117。目标发生器在喷嘴结构中限定开口119，从容器接收的目标材料通过该开口被释放。传感器模块被配置为：当目标材料沿着朝向目标空间112的轨迹行进时，检测与从开口释放的目标材料相关的方面，并且从检测到的方面产生一维信号。目标发生器控制器与传感器模块和目标发生器通信，并且被配置为基于对一维信号的分析来修改目标材料的特性。
本发明授权极紫外光源中的目标提供控制装置和方法在权利要求书中公布了：1.一种用于极紫外EUV光源的目标装置，所述目标装置包括： 目标发生器，包括被配置为容纳在等离子体状态下时产生EUV光的目标材料的容器和与所述容器流体连通的喷嘴结构，所述目标发生器在所述喷嘴结构中限定开口，所述开口适合于释放从所述容器接收的所述目标材料； 传感器模块，被配置为： 当所述目标材料沿着朝向目标空间的轨迹行进时，检测与从所述开口释放的所述目标材料相关的方面，以及 从检测到的所述方面产生一维信号；以及 目标发生器控制器，与所述传感器模块和所述目标发生器通信，所述目标发生器控制器被配置为基于对所述一维信号的分析来修改所述目标材料的特性， 其中所述目标发生器控制器包括：控制系统，被配置为基于对所述一维信号的所述分析生成驱动波形；和致动装置，所述致动装置与所述控制系统通信并且与所述目标材料相互作用，其中所述致动装置被配置为根据来自所述控制系统的所述驱动波形来修改所述目标材料的所述特性， 其中所述驱动波形至少包括与第一频率相关联的第一频率分量和与第二频率相关联的第二频率分量。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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