上海普达特半导体设备有限公司杭明光获国家专利权
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龙图腾网获悉上海普达特半导体设备有限公司申请的专利晶圆清洗装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223829783U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520155795.7,技术领域涉及:H10P72/00;该实用新型晶圆清洗装置是由杭明光;钱文方;帅瑞德;王志敏设计研发完成,并于2025-01-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶圆清洗装置在说明书摘要公布了:本实用新型提供一种晶圆清洗装置,属于半导体设备领域,通过加热件的设置,可有效对供液件进行加热,有效防止氟化铵结晶的形成;温度探测件及控制器的设置,可实现对温度的自动化、便捷控制;降温件的设置可实现供液件供液件壳体的快速降温,提高时效;钝化层的设置还可避免氟化铵结晶与金属材质的反应,降低金属杂质产生的概率;供液件壳体的设置可有效保护供液件,避免供液件与氟化铵结晶的反应;隔热件的设置,可避免热量对位于供液件中的清洗液的影响,以及时有效的避免氟化铵结晶的产生。本实用新型的晶圆清洗装置,可提高时效,且可提高产品产能及质量。
本实用新型晶圆清洗装置在权利要求书中公布了:1.一种晶圆清洗装置,其特征在于,所述晶圆清洗装置包括: 腔体; 承载台,所述承载台设置于所述腔体内,用以承载待清洗的晶圆; 供液件,所述供液件设置于所述腔体内,并位于所述承载台上方,用以向待清洗的晶圆提供清洗液; 加热件,所述加热件设置于所述供液件的外侧,用以向所述供液件提供热源; 温度探测件,所述温度探测件设置于所述腔体内,用以探测所述供液件的温度; 控制器,所述控制器与所述加热件及所述温度探测件相通信。
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