北京北方华创微电子装备有限公司柯伟东获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利半导体工艺腔室和半导体工艺设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223829770U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202423237202.6,技术领域涉及:H10P72/00;该实用新型半导体工艺腔室和半导体工艺设备是由柯伟东设计研发完成,并于2024-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体工艺腔室和半导体工艺设备在说明书摘要公布了:本申请实施例提供了一种半导体工艺腔室和半导体工艺设备,其中,所述半导体工艺腔室包括:腔体、工艺盘、基座、第一抵挡件和第二抵挡件;所述腔体设有容置腔,所述工艺盘、所述第一抵挡件和所述第二抵挡件均设置于所述容置腔内,所述工艺盘套设于所述基座外,所述工艺盘夹于所述第一抵挡件和所述第二抵挡件之间。由于工艺盘夹于第一抵挡件和第二抵挡件之间,这样,可以利用第一抵挡件和第二抵挡件对工艺盘进行限位,以防止工艺盘滑动而与基座剐蹭。
本实用新型半导体工艺腔室和半导体工艺设备在权利要求书中公布了:1.一种半导体工艺腔室,其特征在于,包括:腔体110、工艺盘120、基座130、第一抵挡件140和第二抵挡件150; 所述腔体110设有容置腔111,所述工艺盘120、所述基座130、所述第一抵挡件140和所述第二抵挡件150均设置于所述容置腔111内,所述工艺盘120套设于所述基座130外,所述工艺盘120夹于所述第一抵挡件140和所述第二抵挡件150之间。
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