嘉兴中科微电子仪器与设备工程中心尹永强获国家专利权
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龙图腾网获悉嘉兴中科微电子仪器与设备工程中心申请的专利一种原子层沉积设备辅助分散粉末装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223823697U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423198260.2，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型一种原子层沉积设备辅助分散粉末装置是由尹永强;陈鸿飞;陈俊豪;薛翔宇;明帅强;李明;王浙加;夏洋设计研发完成，并于2024-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种原子层沉积设备辅助分散粉末装置在说明书摘要公布了：本实用新型属于原子层沉积技术领域，涉及一种原子层沉积设备辅助分散粉末装置，包括：筒体，所述筒体侧壁设置有出口，所述筒体底壁设置有入口，所述筒体内设置有容纳腔，所述容纳腔分别与所述出口和所述入口连接；分隔部，所述分隔部设置于所述容纳腔内，且将所述容纳腔分隔为电场施加腔和加热反应腔，所述电场施加腔与所述入口连接，所述电场施加腔与所述出口连接，所述电场施加腔与所述加热反应腔连接。本申请通过静电辅助分散技术，粉末样品能够更均匀地分散，减少了团聚现象，从而提高了粉末与气体的接触面积，增强了反应效率；双腔设计使得取样过程更加直接和简便，避免了粉末在反应腔室内的残留，提高了设备的清洁度和产品的一致性。
本实用新型一种原子层沉积设备辅助分散粉末装置在权利要求书中公布了：1.一种原子层沉积设备辅助分散粉末装置，其特征在于，包括： 筒体，所述筒体侧壁设置有出口，所述筒体底壁设置有入口，所述筒体内设置有容纳腔，所述容纳腔分别与所述出口和所述入口连接； 分隔部，所述分隔部设置于所述容纳腔内，且将所述容纳腔分隔为电场施加腔和加热反应腔，所述电场施加腔与所述入口连接，所述电场施加腔与所述出口连接，所述电场施加腔与所述加热反应腔连接。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人嘉兴中科微电子仪器与设备工程中心，其通讯地址为：314001 浙江省嘉兴市南湖区凌公塘路3339号(嘉兴科技城)；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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