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龙图腾网获悉芯恩(青岛)集成电路有限公司申请的专利一种半导体清洁装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223819192U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520188596.6，技术领域涉及：B08B1/12；该实用新型一种半导体清洁装置是由马明德设计研发完成，并于2025-02-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体清洁装置在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种半导体清洁装置，其中晶圆运输结构用于移动托举限位并驱动晶圆旋转运动，清洁刷转移臂用于移动半导体清洁刷；清洁片与放置台可拆卸固定连接用于去除半导体清洁刷上的残留物。本实用新型通过设置清洁片清洗半导体清洁刷，减少半导体清洁刷使用后残留物落到晶圆上产生的不良问题；同时与半导体清洁刷zeta电位相反的清洁片使半导体清洁刷靠近清洁片时利用静电力将半导体清洁刷使用后的残留物吸附到清洁片上进行自清洁，进一步避免半导体清洁刷使用后的残留物落到晶圆上；另外设置清洁片为可拆卸结构可更换，保证清洁片对半导体清洁刷的自清洁效果；最后利用静电力提高清洁效率，使每次用半导体清洁刷前都可自清洁，降低残留物风险。

本实用新型一种半导体清洁装置在权利要求书中公布了：1.一种半导体清洁装置，其特征在于，所述半导体清洁装置包括：清洗腔室、晶圆运输结构、清洁结构、清洁刷转移臂和自清洗结构； 所述清洗腔室包括工作区域和闲置区域，所述晶圆运输结构和所述清洁结构位于所述工作区域内，所述自清洗结构位于所述闲置区域内； 所述晶圆运输结构包括晶圆移动机械臂和晶圆旋转托具；所述晶圆移动机械臂用于移动晶圆进出所述清洗腔室，所述晶圆旋转托具用于托举限位晶圆在清洗位置并驱动晶圆进行中心旋转运动； 所述清洁结构包括清洗液供给机构、半导体清洁刷、清洁刷旋转驱动机构和清洁刷转移臂；所述清洗液供给结构位于晶圆的清洗位置上方，用于在所述半导体清洁刷清洗晶圆的过程中提供清洗液；所述清洁刷旋转驱动机构与所述半导体清洁刷连接，用于驱动半导体清洁刷滚动；所述清洁刷转移臂与所述半导体清洁刷连接，所述清洁刷转移臂用于驱动所述半导体清洁刷在所述工作区域和所述闲置区域之间水平方向和竖直方向的移动； 所述自清洗结构包括放置台、可拆卸固定结构和清洁片；所述清洁片位于所述放置台上，所述清洁片通过所述可拆卸固定结构与所述放置台可拆卸地固定连接；所述清洁片用于去除半导体清洁刷上的残留物。

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