沈阳芯源微电子设备股份有限公司王超群获国家专利权
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龙图腾网获悉沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请的专利背洗单元和涂胶显影装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223819176U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202423028667.0,技术领域涉及:B08B1/12;该实用新型背洗单元和涂胶显影装置是由王超群;张建;陈兴隆设计研发完成,并于2024-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本背洗单元和涂胶显影装置在说明书摘要公布了:本实用新型涉及涂胶显影领域,提供一种背洗单元和涂胶显影装置,该背洗单元,包括:刷头、旋转托盘、移动托盘与支架;刷头用于相对于支架移动,具有位于支架内的第一工位和位于支架外的第二工位;支架具有朝向旋转托盘向外的第一开口,和朝向刷头的第二开口;支架用于支撑旋转托盘;旋转托盘固定于支架内侧或顶侧;当旋转托盘处于工作状态时,用于带动晶圆相对于刷头旋转,以清洗晶圆的背面的第一区域;移动托盘位于支架的顶侧,用于吸附晶圆的背面的边缘区域;刷头处于运动状态时,用于相对于晶圆运动,以清洗晶圆的背面的第二区域。该背洗单元用于提升晶圆背面的清洁度和光滑度。
本实用新型背洗单元和涂胶显影装置在权利要求书中公布了:1.一种背洗单元,应用于涂胶显影装置,其特征在于,包括:刷头、旋转托盘、移动托盘与支架; 所述刷头用于相对于所述支架移动,具有位于所述支架内的第一工位和位于所述支架外的第二工位; 所述支架具有朝向所述旋转托盘向外的第一开口,和朝向所述刷头的第二开口;所述第一开口用于容纳晶圆;所述第二开口用于容纳所述刷头;所述支架用于支撑所述旋转托盘; 所述旋转托盘固定于所述支架内侧或顶侧;所述旋转托盘吸附晶圆的背面的中心区域时,所述刷头用于通过所述第二开口到达所述第一工位,以接触所述晶圆的背面的第一区域;所述背面的第一区域包括所述晶圆的背面的边缘区域;当所述旋转托盘处于工作状态时,用于带动所述晶圆相对于所述刷头旋转,以清洗所述晶圆的背面的第一区域; 所述移动托盘位于所述支架的顶侧,用于吸附晶圆的背面的边缘区域;当所述移动托盘带动所述晶圆移出所述支架时,所述刷头用于通过所述第二开口到达所述第二工位,以接触所述晶圆的背面的第二区域;所述背面的第二区域包括所述晶圆的背面的中心区域;所述刷头处于运动状态时,用于相对于所述晶圆运动,以清洗所述晶圆的背面的第二区域。
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