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龙图腾网获悉常州臻晶半导体有限公司申请的专利熔体硅液面高度检测装置及其工作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121046935B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511573941.9，技术领域涉及：C30B15/26；该发明授权熔体硅液面高度检测装置及其工作方法是由石智杰;王晗;柯尊斌;陆敏设计研发完成，并于2025-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本熔体硅液面高度检测装置及其工作方法在说明书摘要公布了：本发明属于测量技术领域，具体涉及液位测量，尤其涉及一种熔体硅液面高度检测装置及其工作方法，其中熔体硅液面高度检测装置，包括：坩埚，以及设置在所述坩埚上方的炉盖，所述炉盖上倾斜开设有观察孔；所述炉盖上设置有探测机构，所述探测机构从炉盖底面伸出；所述炉盖的顶面设置有与控制模块电性连接的拍摄模块，所述控制模块适于控制所述拍摄模块穿过观察孔拍摄坩埚内液面和探测机构的图像，以根据图像获取探测机构底端距离液面的高度，进而实现了对坩埚内液面高度的实时准确检测，并且探测机构中的倾斜段可以对冷凝的液体进行收集，避免冷凝的液体对图像造成影响，确保可以通过图像准确的获取液面高度。

本发明授权熔体硅液面高度检测装置及其工作方法在权利要求书中公布了：1.一种熔体硅液面高度检测装置，其特征在于，包括： 坩埚1，以及设置在所述坩埚1上方的炉盖11，所述炉盖11上倾斜开设有观察孔12； 所述炉盖11上设置有探测机构2，所述探测机构2从炉盖11底面伸出； 所述炉盖11的顶面设置有与控制模块电性连接的拍摄模块13，所述控制模块适于控制所述拍摄模块13穿过观察孔12拍摄坩埚1内液面和探测机构2的图像，以根据图像获取探测机构2底端距离液面的高度； 所述探测机构2包括：竖直段21和倾斜段22； 所述竖直段21的底部连接所述倾斜段22； 所述倾斜段22的底端相较于所述倾斜段22的顶端远离所述竖直段21所对应的直线； 所述观察孔12的底端相较于观察孔12的顶端更靠近所述竖直段21所对应的直线； 所述倾斜段22位于观察孔12与竖直段21之间的空间区域中； 所述倾斜段22内部中空设置，所述倾斜段22靠近观察孔12的斜面上开设有若干通孔23，以使倾斜段22靠近观察孔12的斜面上液体通过通孔23进入倾斜段22内部。

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