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龙图腾网获悉朗信(苏州)精密光学有限公司申请的专利一种基于去除函数的离子源位置校准方法、系统、设备和介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121018296B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511566415.X，技术领域涉及：B24B1/00；该发明授权一种基于去除函数的离子源位置校准方法、系统、设备和介质是由甘伟设计研发完成，并于2025-10-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于去除函数的离子源位置校准方法、系统、设备和介质在说明书摘要公布了：本发明提供的一种基于去除函数的离子源位置校准方法，包括以下步骤：在工件的预设对称位置加工多个去除函数斑点；获取工件加工后的面型数据，与工件加工前的面型数据作差，计算得到去除函数斑点的干涉误差面型；基于干涉误差面型提取所述去除函数的像素中心位置和工件的像素中心位置；根据去除函数的像素中心位置和提取工件的像素中心位置确定去除函数斑点相对于工件中心位置的实际偏差；根据实际偏差调整离子源位置，完成校准。相比于现有技术，本发明的基于去除函数的离子源位置校准方法，通过实际加工去除函数斑点位置计算得到实际偏差，并对离子源位置进行偏差补偿的校准手段，达到了提高离子束抛光精度的效果。该系统具有相同的有益效果。

本发明授权一种基于去除函数的离子源位置校准方法、系统、设备和介质在权利要求书中公布了：1.一种基于去除函数的离子源位置校准方法，其特征在于，包括以下步骤： 在工件的预设对称位置加工多个去除函数斑点； 获取工件加工后的面型数据，与工件加工前的面型数据作差，计算得到去除函数斑点的干涉误差面型； 基于所述干涉误差面型提取所述去除函数的像素中心位置信息； 基于所述干涉误差面型提取工件的像素中心位置信息； 根据所述去除函数的像素中心位置信息和所述提取工件的像素中心位置信息确定所述去除函数斑点相对于工件中心位置的实际偏差； 根据所述实际偏差调整离子源位置，完成校准； 在执行所述基于所述干涉误差面型提取所述去除函数的像素中心位置信息时，包括以下步骤： 基于所述干涉误差面型生成去除函数斑点原始图像，并去除所述去除函数斑点原始图像的边缘误差和中心误差，得到第一图像，其中，所述第一图像仅包含去除函数斑点； 提取所述第一图像中所述去除函数斑点的轮廓信息和所述去除函数斑点最小外接圆的中心坐标，得到去除函数斑点的第一位置信息； 根据所述第一位置信息和所述中心坐标判断是否存在坐标轴旋转误差，并对所述第一图像进行角度校准，得到所述去除函数斑点的标准位置信息； 基于所述标准位置信息计算去除函数斑点的像素距离，根据去除函数斑点的像素距离与所述去除函数斑点的实际距离对去除函数斑点进行像素位置标定，得到去除函数的像素尺寸，并计算得到所述去除函数的像素中心位置信息； 所述预设对称位置具体为：以工件中心位置为坐标轴原点，沿坐标轴方向对称距离分布的四个点位，其中，两个点位按所述对称距离沿坐标轴x轴方向对称分布，两个点位按所述对称距离沿坐标轴y轴方向对称分布。

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