中国科学院金属研究所孟杰获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院金属研究所申请的专利一种Ta、W改性的NiCrAlYHfSi涂层用靶材及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120989454B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511517308.8，技术领域涉及：C22C19/05；该发明授权一种Ta、W改性的NiCrAlYHfSi涂层用靶材及其制备方法是由孟杰;储昭贶;张朝威;王亮;邹明科;于金江;朱嘉;高雪峰;周亦胄;王新广设计研发完成，并于2025-10-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种Ta、W改性的NiCrAlYHfSi涂层用靶材及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于涂层材料制备技术领域，具体涉及一种Ta、W改性的NiCrAlYHfSi涂层用靶材及其制备方法。按质量百分数计，靶材的化学成分为：Cr：11～15wt%，Al：5～10wt%，Y：0.1～1wt%，W：1～6wt%，Ta：2～5wt%，Hf：1～2wt%，Si：0.3～0.8wt%，Fe：≤0.5wt%，Ni余量。按成分范围配比称量原材料，采用一次真空感应熔炼制备母合金，并对表面打磨去除氧化皮；再按靶材所需尺寸压制蜡模，蜡模组合及制壳，将母合金按所需重量切割后在真空感应熔炼炉中进行二次真空感应熔炼浇注到型壳中，凝固冷却后清理型壳，切割加工成所需尺寸，得到Ta、W改性的NiCrAlYHfSi涂层用靶材。
本发明授权一种Ta、W改性的NiCrAlYHfSi涂层用靶材及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种Ta、W改性的NiCrAlYHfSi涂层用靶材，其特征在于，按质量百分数计，其化学成分如下： Cr：11～15wt%，Al：5～10wt%，Y：0.1～1wt%，W：1～6wt%，Ta：2～5wt%，Hf：1～2wt%，Si：0.3～0.8wt%，Fe：≤0.5wt%，Ni余量； 靶材的微观组织由γ相、γ′相和β-NiAl相、α-Cr相组成； γ相、γ′相的总体积占比为40～65%。
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